基本資料
| 攤位 | L0500 |
| 國別 | TW |
| 網站 | jusung.com/eng/document/semiconductor |
公司簡介
韓商周星工程股份有限公司台灣分公司是韓國 Jusung Engineering 的台灣分公司，作為連結半導體生產設備與相關技術支援的在地服務與銷售據點。Jusung Engineering 表示，公司以核心前段製程技術推動韓國半導體、顯示器與太陽能電池製造設備的全球化。公司把成長歸因於創新，並回顧 1990 年代初期韓國尚缺乏半導體製造設備零組件生產能力時的發展歷程。業務涵蓋半導體、顯示器與太陽能電池設備，其中半導體事業聚焦製造關鍵「沉積」製程設備。公司表示，其半導體設備在極端條件下仍能形成均勻薄膜，並用於超微細 DRAM、3D NAND 與 Logic 製程，以提升生產力。顯示器設備方面，公司把韓國首套 Display PE CVD 的開發與量產成功及面板大型化技術列為里程碑，並提供可用於超高解析、柔性、穿戴與透明 OLED 的 ALD/CVD 設備。太陽能方面，公司表示在韓國率先建立薄膜型與結晶型太陽能電池的 cell 與 module 製程，設備組合涵蓋 Single 與 Tandem junction。2025 年資料列示 R&D 人員比例為 62.4%，專利數為 3,350。台灣分公司的介紹承接母公司的設備與 R&D 背景，重點是 Jusung 與台灣半導體客戶的在地連結，而非獨立的台灣製造事業。半導體業務同時面向記憶體與非記憶體應用需求，並把半導體 ALD 核心技術與顯示及太陽能技術領域相連。
展出產品
半導體產品線包括 SDP System (ALD & CVD)、Guidance Series (ALD & CVD) 與 Eureka，設備組合面向記憶體與非記憶體應用需求。SDP System 是採用 zero-damage 概念、以提升生產力為目的的電漿設備，可在單一腔體中同時於 5–6 片晶圓上沉積薄膜。Jusung 的 ALD 設備可在 300°C 以下低溫，不受複雜下部結構影響，於超微細 DRAM、200+ 層 3D NAND 與 sub-10nm Logic 製程形成均勻且高品質薄膜。隨著 Tech-Migration 加速，狹小空間中的精密薄膜控制變得重要，公司 ALD 核心技術同時因應記憶體與非記憶體需求。列出的 ALD 特性包括 Deposition Temperature Free、Particle & Contamination Free、Physical Properties Control、Electrical Properties Control、Interface Control、Step Coverage Control、Selective Deposition、Optical Properties Control、Designable 與 Grain Condition Control。Guidance Series 是可對應廣泛 process window 的次世代半導體設備，可調整 Step Coverage 比例與薄膜 Stress。透過 space-time modulation，Guidance Series 可提供 Recipe 彈性，以達到新一代 Device 所需製程條件。Eureka 被定位為可形成超純沉積膜的次世代設備，也是 Epi 工具，可提升沉積速度與生產效率。產品組合同時包含 ALD 與 CVD 薄膜沉積設備，以回應記憶體與非記憶體應用。ALD 技術也與把電能轉為光能的顯示技術，以及把光能轉為電能的太陽能技術整合。較廣的 Jusung 業務中，沉積設備支援超微細 DRAM、3D NAND 與 Logic；相關 ALD/CVD 組合亦用於柔性、穿戴與透明 OLED 等顯示應用。設備重點涵蓋薄膜品質、製程控制、Step Coverage、薄膜 Stress、Recipe 彈性、沉積速度與生產力，不同平台對應不同沉積需求。
能力與產品項目
- 半導體 ALD/CVD SDP System
- 半導體 ALD/CVD Guidance Series
- Eureka 外延 Epi 沉積設備
- 記憶體與非記憶體薄膜沉積設備