基本情報
| ブース | S8143 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.iemtw.com/tw |
会社概要
ION ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD.は半導体向け特殊材料を開発し、半導体産業の特殊ガス材料におけるグローバルリーダーと、先進製造で信頼されるパートナーになることをビジョンとして掲げています。重要材料によって先進半導体プロセスを支え、顧客との緊密な協力を通じて安定、安全、信頼性のあるソリューションを重視します。技術・R&D能力には、イオン注入ガスと高純度フッ素技術を含む半導体材料技術があります。サプライチェーンの強靱性と持続可能な産業成長を支えるため、現地R&Dと製造を強化しています。安全、環境保護、持続可能性を開発の各段階に組み込み、厳格な品質トレーサビリティとリスク管理によって重要材料の信頼性と安全性を管理します。世界の主要半導体顧客と長期的な戦略協力を行っているとしています。認証とコンプライアンスにはISO 9001、ISO 14001、ISO 45001、Toxic Chemical Substance Permit、Hazardous Chemical Storage & Operations Licenseが含まれ、規制化学品の製造、保管、販売、輸送を対象とします。本社は苗栗銅鑼科学園区にあり、電子産業向け特殊材料に注力して現地サービスを提供し、複数国の特許を保有します。品質管理はIQCの原料基準、サプライヤー審査、受入分析試験、倉庫管理、IPQCのSOP、精密検査設備、不良品管理、GCラボ分析、OQCの全数出荷検査、顧客満足度調査、継続改善を含みます。自社の危険化学品物流チームと危険化学品保税工場を持ち、台湾のカスタマーサービスチームが24時間対応し、緊急対応訓練による迅速な現場支援を行います。沿革では2016.Q2に新竹で設立、2017.Q3にAsH3生産ライン設置、2018.Q3に新竹工場完成とBF3・GeF4ライン設置、2018.Q4にISO9001認証取得、2019.Q1に国内主要半導体企業への安定供給、SAG-II機械式負圧シリンダーの開発完了と特許出願が記載されています。顧客は主に半導体・光電製造業で、主要電子企業に長期供給し、日本、シンガポール、韓国へ輸出しています。製品にはArsine (AsH3)、Phosphine (PH3)、11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3)、Germanium Tetrafluoride (GeF4)、Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4)、11BF3と72GeF4のSAG II版、Nitrogen Trifluoride (NF3)があります。
展示製品
ガス材料の供給範囲には、半導体用負圧シリンダーバルブ、吸着材充填技術、イオン注入ガス包装、特許R&D技術、特殊材料供給、現地生産、危険物物流サービスが含まれます。ION ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD.は電子産業向け特殊材料を現地生産して安定供給を支え、半導体用負圧シリンダーバルブ、吸着材の開発・充填技術を持ち、顧客要求に応じたカスタマイズにも対応します。製品分野にはイオン注入ガス、電子洗浄ガス、レーザーガス、電子堆積ガスがあり、特殊材料と危険物の保管・輸送サービスも提供します。イオン注入ガスにはArsine (AsH3)、Phosphine (PH3)、11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3)、Germanium Tetrafluoride (GeF4)、Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4)、11BF3と72GeF4のSAG II負圧シリンダー製品があります。11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3) - SAG IIは顧客要求に応じて水素を混合でき、大容量の機械式負圧保管によって安全性と安定流量を両立し、ウェハ製造とパネル産業に適用されます。シリンダーは色分け管理し、ガスごとに独立した生産ラインを用いてシリンダーを共用しないことで、生産ライン汚染リスクを抑えます。複数サイズのシリンダーとカスタム充填量を選択でき、シリンダー径とバルブ接続は業界の共通仕様に対応するため装置改造を必要としません。台湾での充填、常備在庫、即時出荷によって短納期を支え、専用輸送、24時間サービス、迅速な緊急対応も提供します。SAG IではAsH3が2.2L/3.6L、1/2" MVCR、700g/960g、PH3が2.2L/3.6L、1/2" MVCR、230g/325g、11BF3が3.95L、1/4" MVCR、280g、GeF4/72GeF4が2.2L、1/4" MVCR、800gです。SAG II機械式負圧シリンダーでは11BF3、11BF3/H2、72GeF4/H2がそれぞれ2.2L、1/4" MVCR、525gとされています。Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4) - SAG IIも顧客要求に応じて水素を混合でき、大容量機械式負圧保管による安全性と安定流量を備え、ウェハ製造向けに色分け管理、独立ガスライン、複数シリンダーサイズ、カスタム充填、台湾在庫を提供します。Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4)には吸着材式負圧シリンダー版もあり、半導体イオン注入用特殊ガスとしてウェハ製造に使用され、長年半導体業界で使用されている吸着材、色分け管理、独立ガスライン、バルブ開閉表示、複数サイズ、カスタム充填を備えます。Germanium Tetrafluoride (GeF4)も吸着材式負圧シリンダーで供給されるウェハ製造向け半導体イオン注入特殊ガスで、色分け管理、独立ガスライン、開閉表示、複数シリンダーサイズ、カスタム充填、台湾充填、常備在庫による即時出荷に対応します。GeF4と72GeF4には専用輸送、24時間サービス、迅速な緊急対応支援が付随します。
対応領域・製品
- イオン注入ガス
- 高純度フッ素技術
- 半導体用負圧シリンダーバルブの開発・充填
- 吸着材の開発・充填
- イオン注入ガス用負圧シリンダー包装
- 電子洗浄ガス
- レーザーガス
- 電子堆積ガス
- Arsine (AsH3) イオン注入ガス
- Phosphine (PH3) イオン注入ガス
- 11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3) イオン注入ガス
- Germanium Tetrafluoride (GeF4) イオン注入ガス
- Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4) イオン注入ガス
- Nitrogen Trifluoride (NF3) 供給
- 11BF3 SAG II 機械式負圧シリンダー
- 72GeF4 SAG II 機械式負圧シリンダー
- 11BF3/H2 カスタム混合
- 72GeF4/H2 カスタム混合
- SAG I 吸着式負圧シリンダー充填
- SAG II 機械式負圧シリンダー充填
- 複数シリンダーサイズとカスタム充填量
- 危険物の保管・輸送サービス
- GCラボによる製品分析