基本資料
| 攤位 | S8143 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.iemtw.com/tw |
公司簡介
兆捷科技國際股份有限公司發展半導體特殊材料，並將願景描述為成為半導體產業特用氣體材料的全球領導者，以及先進製造領域值得信賴的合作夥伴。公司以關鍵材料支援先進半導體製程，透過與客戶密切合作，強調穩定、安全且可靠的解決方案。其技術與研發能力涵蓋半導體材料，包括離子植入氣體與高純度氟技術。公司強化在地研發與製造，以提升供應鏈韌性並支持產業永續成長。安全、環境保護與永續性被納入開發各階段。品質管理採用嚴格的追溯與風險管理制度，以維持關鍵材料的一致可靠性與安全性。公司表示與全球主要半導體客戶維持長期策略合作。認證與法規遵循包括 ISO 9001 品質管理、ISO 14001 環境管理、ISO 45001 職業健康安全，以及毒化物核可與危險化學品倉儲操作許可，並涵蓋受管制化學品的製造、儲存、銷售與運輸。兆捷科技國際股份有限公司總部位於苗栗銅鑼科學園區，專注電子業特殊材料並提供在地服務，具備多國專利。品質控管涵蓋 IQC 的原料標準、供應商審核、來料分析測試與倉儲管理；IPQC 包括完整 SOP、精密檢測設備、不良品控管與 GC 實驗室分析；OQC 則包括出貨全面檢驗、客戶滿意度調查與持續改善。公司擁有自有危化品物流團隊與危化品保稅工廠，台灣客服團隊提供全天候支援，並進行緊急應變訓練以快速到場支援。沿革記載 2016.Q2 於新竹成立，2017.Q3 設立 AsH3 砷化氫產線，2018.Q3 新竹廠完工並設立 BF3、GeF4 產線，2018.Q4 獲 ISO9001 認證，2019.Q1 穩定供應國內半導體大廠，並完成 SAG-II 機械式負壓鋼瓶開發與專利申請。客戶主要為半導體與光電製造業，產品長期供應電子大廠，也出口至日本、新加坡與韓國。列示產品包括 Arsine (AsH3)、Phosphine (PH3)、11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3)、Germanium Tetrafluoride (GeF4)、Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4)、11BF3 與 72GeF4 的 SAG II 版本，以及 Nitrogen Trifluoride (NF3)。
展出產品
氣體材料供應內容包括半導體負壓鋼瓶閥、吸附劑填充技術、離子植入氣體充填包裝、專利研發技術、特殊材料供應、在地化生產與危險物品物流服務。兆捷科技國際股份有限公司以在地生產電子特殊材料支援穩定供應，具備半導體用負壓鋼瓶閥件、吸附材料開發與充填技術，也可依客戶需求進行客製化。產品分類包括離子植入氣體、電子清潔氣體、雷射氣體與電子沉積氣體，並搭配特殊材料及危險品倉儲運輸服務。離子植入產品包括 Arsine (AsH3)、Phosphine (PH3)、11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3)、Germanium Tetrafluoride (GeF4)、Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4)，以及 11BF3 與 72GeF4 的 SAG II 負壓鋼瓶版本。11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3) - SAG II 可依客戶需求混合氫氣，採高容量機械式負壓儲存，兼具安全性與穩定流量，應用於晶圓製造與面板產業。鋼瓶採分色管理與獨立氣體產線，不混用鋼瓶，以降低產線污染風險；可選多種鋼瓶尺寸與客製化灌充量，瓶徑與閥口採業界通流規格，無須改機即可使用。台灣充填、常備庫存與即時出貨支援快速交期，並提供專責運輸、24 小時服務與緊急應變支援。SAG I 規格中，AsH3 使用 2.2L/3.6L、1/2" MVCR、700g/960g；PH3 使用 2.2L/3.6L、1/2" MVCR、230g/325g；11BF3 使用 3.95L、1/4" MVCR、280g；GeF4/72GeF4 使用 2.2L、1/4" MVCR、800g。SAG II 機械式負壓鋼瓶的 11BF3、11BF3/H2、72GeF4/H2 均列為 2.2L、1/4" MVCR、525g。Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4) - SAG II 同樣可依客戶需求混合氫氣，採高容量機械式負壓儲存並強調安全與穩定流量，用於晶圓製造，也具分色管理、獨立氣體產線、多種鋼瓶尺寸、客製化灌充量與台灣常備庫存。Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4) 另有吸附材式負壓鋼瓶版本，作為半導體離子佈植特殊氣體，使用半導體業界多年採用的吸附材料，並應用於晶圓製造；產品具分色管理、獨立氣體產線、閥門開關指示、多種鋼瓶規格與客製化灌充量。Germanium Tetrafluoride (GeF4) 也以吸附材式負壓鋼瓶供應，作為晶圓製造用半導體離子佈植特殊氣體，具分色管理、獨立氣體產線、開關指示、多種鋼瓶尺寸與客製化灌充量，並由台灣充填與常備庫存支援即時出貨。GeF4 與 72GeF4 產品均搭配專責運輸、24 小時服務與快速緊急應變支援。
能力與產品項目
- 離子植入氣體
- 高純度氟技術
- 半導體負壓鋼瓶閥件開發與充填
- 吸附材料開發與充填
- 離子植入氣體負壓鋼瓶包材
- 電子清潔氣體
- 雷射氣體
- 電子沉積氣體
- Arsine (AsH3) 離子植入氣體
- Phosphine (PH3) 離子植入氣體
- 11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3) 離子植入氣體
- Germanium Tetrafluoride (GeF4) 離子植入氣體
- Enriched 72Germanium Tetrafluoride (72GeF4) 離子植入氣體
- Nitrogen Trifluoride (NF3) 供應
- 11BF3 SAG II 機械式負壓鋼瓶
- 72GeF4 SAG II 機械式負壓鋼瓶
- 11BF3/H2 客製混氣
- 72GeF4/H2 客製混氣
- SAG I 吸附式負壓鋼瓶充填
- SAG II 機械式負壓鋼瓶充填
- 多尺寸鋼瓶與客製化灌充量
- 危險品倉儲運輸服務
- GC 實驗室產品分析