基本資料
| 攤位 | R7312 |
| 國別 | KR |
| 網站 | www.imt-c.co.kr |
公司簡介
IMT 投入乾式清洗技術的開發與精進已超過 20 年。我們的乾式清洗技術應用於半導體、顯示器、智慧型手機等高科技產品的生產。在全球市場上，其優異表現已獲眾多客戶驗證。我們為客戶提供以雷射與 CO2 取代水或化學品的解決方案，用以去除高科技產品製造過程中產生的各類異物或微粒。乾式清洗技術的優點：不使用化學品或水的環保清洗、清洗快速可提高生產力、不損傷產品的安全清洗、體積精巧佔地面積小。產品包括：EUV 光罩解決方案、雷射清洗機與 CO2 清洗機。解決方案涵蓋 EUV 光罩、HBM 晶圓清洗、半導體晶圓、半導體探針卡、半導體測試座、半導體封裝模具、半導體零件、鋰離子電池、相機模組、OLED 面板、OLED FMM 光罩、PCB、金屬件與塑膠件。技術方面，雷射清洗是一種乾式清洗技術，透過誘發適當的雷射與污染物交互作用，選擇性地從表面移除污染物，具備只選擇性移除污染物的精準清洗、不使用化學藥劑的乾式安全清洗、無機械負載的遠距非接觸清洗，以及無需後清洗製程的快速簡便清洗等優點。公司同時提供 CO2 噴射清洗。
展出產品
產品包括 EUV Mask Solutions、LASER Cleaner 與 CO2 Cleaner。乾式清洗方案以雷射或 CO2 處理 EUV 光罩、HBM 晶圓、半導體晶圓、探針卡、測試座、封裝模具與半導體零件，也適用於鋰離子電池、相機模組、OLED 面板／FMM 光罩、PCB、金屬與塑膠零件。
能力與產品項目
- 雷射與 CO2 乾式清洗技術
- EUV 光罩清洗解決方案
- HBM 晶圓清洗
- 探針卡與測試座清洗
- OLED FMM 光罩清洗
- 選擇性移除污染物的精準清洗
- 無機械負載非接觸清洗
- 免化學品免水環保清洗
- 鋰電池與相機模組清洗