基本資料
| 攤位 | Q5152 |
| 國別 | CN |
| 網站 | www.cobetter.com.cn/applications/microelectronics/semiconductor |
公司簡介
杭州科百特過濾器材有限公司是 Cobetter 過濾與流體管理業務背後的杭州實體，為積體電路產業鏈提供過濾、純化、分離、流體與包裝解決方案。Cobetter 成立於 2003 年，專注於過濾、分離與純化膜材料及流體管理系統的研發。公司所列解決方案市場包括全球積體電路製造、生物製藥、工業應用與新能源領域。Cobetter 同時從事膜材料研發，並提供過濾、分離與純化解決方案，構成同一流體管理業務的一部分。針對半導體，公司定位為與晶圓廠化學品、氣體與製程流體相關的製程過濾、膜材料與流體管理供應商。公司相關的過濾類別包括液體、油品與氣體過濾器，與半導體製程流體及廠務系統解決方案相互補充。在積體電路領域，Cobetter 表示其方案從拉晶、大矽片製造一路涵蓋晶片製造與晶片封裝，覆蓋完整產業鏈。
展出產品
Cobetter 指出，降低積體電路生產製程中的缺陷數量可提升產品良率，進而提高積體電路可靠性，因此良率提升是產業長期關注的議題。其半導體供應內容將過濾、純化、分離、流體與包裝方案從拉晶延伸至大矽片製造，再從晶圓進入晶片製造與晶片封裝。針對晶圓廠廠務與輸送系統，公司提供涵蓋超純水系統、化學品輸送系統、Slurry 輸送系統與氣體系統的方案，使過濾與純化功能配置於半導體生產所使用的流體與氣體供應環節。超純水系統因此屬於 Cobetter 在積體電路領域的過濾與純化範圍，用於半導體製造環境的廠務端水處理。化學品、Slurry 與氣體輸送也包含在同一過濾與純化解決方案範圍中，對應 chemical-delivery、Slurry-delivery 與 gas-system 應用。製程端則列出薄膜沉積、光刻、化學機械研磨（CMP）、濕法蝕刻和清洗、電化學電鍍（ECP）與離子注入等工藝點。CMP 被明確列為半導體應用，並在公司整體過濾、純化與分離方案中成為 Cobetter 所服務的製程領域之一。濕法蝕刻和清洗同樣是明確列出的半導體應用，使過濾與純化能力延伸至另一關鍵製程階段，並與光刻、沉積、電鍍及離子注入等應用共同構成製程覆蓋。
能力與產品項目
- 半導體超純水系統方案
- 半導體化學品輸送系統方案
- 拋光液輸送系統方案
- 半導體氣體系統方案
- 積體電路過濾方案
- 積體電路純化方案
- 積體電路分離方案
- 積體電路包裝方案