基本情報
| ブース | Q5658 |
| 国 | KR |
| ウェブサイト | www.fstc.co.kr/eng |
会社概要
FST (Fine Semitech Corp.) は 1987 年に設立され、半導体製造で使用する photomask の保護カバーである pellicle の国産化に成功しました。1988 年から国内外の半導体企業に製品を供給し、その後 6th generation LCD pellicle の開発を完了して mass production system を構築しました。半導体装置の自社技術に対する継続的な R&D 投資により、半導体温度を調整して process efficiency を高める chiller を開発しました。FST は EUV infrastructure 向けに optimized EUV Source の EUVO も投入し、EUVO は HHG で生成され、EUV metrology field の light source として使用されています。企業責任として customer oriented operation、open and aboveboard operation、environment conscientious operation を掲げています。また AUROS Technology の wafer inspection と overlay metrology を紹介しており、Overlay Metrology System は advanced optical image-based technology により半導体デバイスの積層パターン間 overlay を測定します。
展示製品
FST の Pellicle Division は IC および FPD 製造工程向け pellicle を開発・製造し、露光時に contaminants や particles が photomask に直接接触することを防いで mask contamination を抑え、yield と process reliability を支えます。Pellicle lineup は複数の露光波長に対応し、materials engineering、thin-film coating、frame bonding、contamination control の技術を基に顧客の process requirements に合わせた customized solutions を提供します。使用目的として photomask の contamination と physical damage の防止、semiconductor-device yield の向上、photomask cleaning cycle と service life の延長、反復使用時に発生する contaminants からの隔離が挙げられています。Pellicle structure は、露光波長に最適化され high transmittance、high mechanical strength、thermal stability を持つ membrane、thermal expansion characteristics と mechanical rigidity を考慮した frame、高温・真空でも接着を維持する Membrane Adhesive、特定モデルで photomask の着脱を容易にする Mask Adhesive で構成されます。Semiconductor photomask 用として ArF Immersion(193nm)、ArF(193nm)、KrF(248nm)、G&I(365 & 436nm) の IC pellicle があり、EUV Pellicle は Under Development とされています。ArF Immersion は Perfluoropolymer、厚さ 0.28㎛、193nm・248nm・365nm の Transmittance がいずれも ≥ 99.0%、Uniformity of TR が ≤ 0.1% です。ArF pellicle は Perfluoropolymer、0.84㎛、193nm で ≥ 99.0%、uniformity ≤ 0.3% で、KrF は Perfluoropolymer、0.82㎛、248nm と 365nm で ≥ 99.0%、uniformity ≤ 0.4% です。G&I pellicle は Cellulose & Perfluoropolymer、1.44㎛、365nm と 436nm で ≥ 99.0%、Uniformity of TR ≤ 0.5% です。FST の Temperature Control Unit は Thermoelectric、Compressor-type、Cryogenic Chiller、Heat Exchanger、THC (Temp & Humidity Controller) を含み、-100℃ ~ +200℃ の範囲を示しています。温度制御機能には Fast Response Time、±0.01 ~ ±0.1℃ Accurate Temperature Control、Load & Output Variable System、3Way Valve Control、High Efficiency('Hiper') TEM & Block、Eco-friendly & Seismic Design、Power Vaccine と呼ぶ Momentary Power Outage Resistance が含まれます。同じ TCU 分野には harmful and toxic gases 用 Scrubber もあり、chemical adsorption、chemical stability を持つ resin、排出管理、energy-saving mode、Low NOx burners、NOx-free chamber、powder と byproduct management を組み合わせます。Chiller lineup は Compressor-type Chiller、Heat Exchanger、Thermoelectric Chiller、Cryogenic Chiller、CO₂ Type に分かれ、各製品に reliability、power saving、temperature control、vibration resistance の機能があります。Compressor-type Chiller は Power Vaccine、high-reliability refrigeration components and cycle、60% less power とされる energy-saving refrigeration system、50% Reduction とされる low-noise low-power circulation system、seismic & vibration-resistance design を備えます。Heat Exchanger は Power Vaccine、high-reliability components and sensors、±0.01℃ precision-control 3-Way Valve、50% Reduction の low-noise low-power circulation system、seismic & vibration resistance を備えます。Thermoelectric Chiller は Power Vaccine、±0.01℃ high-accuracy & fast-response temperature control、High Efficiency(Hiper) TEM & Block、IGBT Circuit、Non-defective SMPS、Compact Size & User-friendly Structure を組み合わせます。Cryogenic Chiller は dew condensation と freezing の条件下での reliability を想定し、7kW@-70℃ の Extra Low Temperature と 20 ▶ -80℃, 10min. の Rapid Cooling and Maintaining、Seismic & Vibration-resistance Design を示します。CO₂ Chiller は variable Frequency driver 付き low-power circulation system、GWP : 1 の eco-friendly natural refrigerant、安全弁による system protection、10 MPa 以上で Up to 14MPa の high-pressure parts を含む refrigeration cycle を採用します。FST の APS Division は EUV lithography 向け advanced equipment の開発・商用化を行い、2010 年から next-generation semiconductor manufacturing に必要な EUV infrastructure tools と inspection systems を提供しているとしています。APS R&D は quantity・temperature・pressure の process control、EUV Pellicle rupture prevention & monitoring、automation solution、HHG と LPP による EUV Generation、table top scale footprint、Through Pellicle Inspection、Die to Die Algorithm、Auto Defect Review & Classification を扱います。EUV lineup には EPMD EUV Pellicle Mounter / Demounter、EPIS EUV Pellicle Inspection System、EPODIS EUV Pod Inspection System、EUV Source Generation System があります。EPMD は Fully Automated EUV Pellicle Mounting and Demounting System で、high throughput と small footprint、Glue quantity・Heat temperature・Pressure の precise process control、複数の EUV Pellicle rupture prevention modules を備えます。EPIS は EUV Pellicle と Pelliclized mask の incoming/outgoing quality-control inspection system で、pellicle stocking と case unclipping/opening の自動化、membrane・frame・mask の diverse inspection area、Auto Defect Review & Classification を提供します。EPODIS は complex structured EUV inner Pod の metrology and inspection system で、base と cover plate の Particle、non-plating Area、plating Defects を対象にし、inner pod parallelism measurement と particle removal 用 N2 Blowing Module を支援します。EUV Source は EUV Inspection & Metrology tools 向けで、HHG と LPP の 2 generation modes を持ち、HHG では excellent coherence と low divergence を示し、Mask Defect Review System、EUV Transmittance/Reflectance Measurement System、Mask Pattern Inspection System(Macro defect) に適用されます。DUV inspection には MERCURY (Optical Pellicle & Mask Inspection System) と PRIME Series ArF,KrF Pellicle Inspection System があります。MERCURY は consumable parts を最小化して low cost of ownership を図り、mask chamfer and side を含む pellicle / mask inspection、user-friendly recipe creation、A.D.R (Automatic Defect Review)、membrane の front/back side に particle があるかを自動判定する機能を備えます。PRIME Series は ArF、KrF pellicle の particle inspection を行い、accurate detection 用 patented algorithm、membrane full-area inspection、A.D.R (Automatic Defect Review)、particle の front/back side discrimination を提供します。
対応領域・製品
- IC Pellicle の開発・製造
- FPD Pellicle の開発・製造
- Pellicle カスタムソリューション
- ArF Immersion 193nm IC Pellicle
- ArF 193nm IC Pellicle
- KrF 248nm IC Pellicle
- G&I 365/436nm IC Pellicle
- コンプレッサー式 Chiller
- 熱交換器
- 熱電式 Chiller
- 極低温 Chiller
- CO₂ Chiller
- 温湿度コントローラ（THC）
- 有害・有毒ガス用 Scrubber
- EUV Pellicle 自動着脱システム
- EUV Pellicle 検査システム
- EUV Pod 検査・計測システム
- EUV 光源生成システム
- 光学 Pellicle・Mask 検査システム
- ArF／KrF Pellicle 粒子検査システム