基本情報
| ブース | Q5658 |
| 国 | KR |
| ウェブサイト | www.fstc.co.kr/eng |
会社概要
FST は 1987 年に設立され、半導体製造工程で使用されるフォトマスクの保護カバーであるペリクルの国産化に成功しました。1988 年以来、当社は国内外の著名な半導体企業に安全な製品を供給しており、近年は第 6 世代 LCD 用ペリクルの開発を完了し、量産体制を確立しました。半導体装置の国産化に向けた自社技術への継続的な研究開発投資の成果として、FST は半導体の温度を調整することでプロセス効率を高めるチラーの開発にも成功しました。FST は「21 世紀の業界リーダーになる」という使命を担い、確かな品質の製品を提供することでお客様にご満足いただけるよう努力を続けています。飽くなき情熱をもって研究に取り組み、技術の進歩を通じて収益性と成長率の両立を図ります。近年、FST は EUV インフラ向けに最適化された EUV 光源(EUVO)を発表しました。EUVO は高次高調波発生(HHG)によって生成され、EUV 計測分野の光源として使用されています。主要企業として社会的責任を具体化するため、当社は「顧客本位の経営、公明正大な経営、環境に配慮した経営」といった内容の忠実度を高めることに取り組んでいます。AUROS Technology はウェハ検査とオーバーレイ計測の最先端技術を開発し、半導体業界に最も競争力が高くコスト効率に優れたソリューションを提供しています。AUROS のオーバーレイ計測システムは先進的な光学画像ベース技術を採用し、半導体デバイスの積層された層間のパターンのオーバーレイを測定します。
展示製品
製品には、半導体フォトマスク用ペリクル、第6世代LCDペリクル、半導体プロセス温度制御用チラー、EUV計測向けEUVO EUV光源が含まれる。正本にはAUROSのウェハ検査およびOverlay Metrology Systemも記載され、光学画像技術で積層パターン間のオーバーレイを測定する。
対応領域・製品
- フォトマスク用ペリクルの国産化
- 第6世代LCDペリクルの量産
- 工程効率を高めるチラーの開発
- 最適化EUV光源(EUVO)
- HHGで生成される光源
- AUROSオーバーレイ計測システム
- ウエハ検査とオーバーレイ計測技術