基本情報
| ブース | P5106 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.woya.com.tw |
会社概要
Weltall Technology Corporation は2007年に実務経験を持つエンジニアグループによって設立され、「Honesty, Justice, Diligence, and Passion」の姿勢と精神を企業文化に結び付け、顧客へのリアルタイムサービスを重視しています。本社は台湾北部のHsinchuにあり、中部のTaichung、南部のTainanとKaohsiungにサービスセンターを設けています。グローバル事業戦略と主要顧客の拠点に合わせ、米国PhoenixのWelmade、日本KumamotoのWelsun、SingaporeのWelstarを設立し、中国のShanghai Miyaを姉妹会社として挙げています。研究開発、営業、カスタマーサービスの各チームは、クリーンルームAMCガス監視システム、排出配管のNMHC、THC、CH4 VOC検出器、ESG連続ガス監視システムに加え、電子産業と研究機関向けの統合ガス監視・分析とカスタムソリューションを提供します。Weltall Technology Corporation は単なる装置販売会社ではなく統合システムサービスプロバイダーとして、各種分析装置、監視システムの計画・設計、データチャート制御ソフトウェア、システム適合性試験、現地配管施工、システム運用教育・訓練、定期保守、包括的なアフターサービスを扱います。システム統合専門サービスとともに、ISO 9001:2015、ISO 45001:2018、ISO/IEC 17025:2017の品質、労働安全、ラボ管理に関する資格を掲げています。2024.11.29、Weltall Technology Corporation はBSIのISO 27001 Information Security Management System認証取得を発表しました。サービス分野はAMC監視、VOC-CEMS、システム統合、校正ラボで構成され、製品群では各種分析計とWeltallが統合する監視システムおよびソフトウェアを組み合わせています。監視・分析製品ポートフォリオには、TOFWERK-Semicon AMC、TOFWERK Process AnalyzerとicpTOF、WelTof Cleanroom Multiport AMC Gas Monitoring System、SCADA Software、WG300-AMS Intelligent multi-point sampling system、F.A.ST、TAPI、PMS、AMETEK MOCON-Baseline、Perkin Elmer、ABB、Flow Meter and Z/S Check System、piD-TECH TVOC Monitor、LNI Gas Generator / Calibratorも掲載されています。パートナー技術には、San DiegoのTeledyne APIによる精密な大気質・産業ガス監視計測器、Particle Measuring SystemsによるクリーンルームAMC分析計、LNI Swissgasによるガス発生器、ガスミキサー、ガス校正器が含まれ、LNI Swissgasはこれらの分析ラボ向けガス技術で30年以上の経験を持つとされています。
展示製品
TOFWERK TOFMS(Time of Flight Mass Spectrometer) はリアルタイムのVOC識別・報告、高質量分解能による干渉同重体の分離と正確な定量、連続運転・安全なリモートアクセス・データ報告用ソフトウェア、さらに任意の向きで衝撃に耐える構造を備えます。関連するFOUP監視ではMA、MB、MCとして示される酸、塩基、有機物を高速同時検出し、完全自動Load Port監視、RFIDによるFOUP ID認識、OHT互換性に対応します。排出監視ではNMHC、THC、CH4を同時測定し、T90 < 30 seconds、検出限界0.06 ppmまでに対応し、NO、NO2、NOxの同時監視では測定範囲に応じてN200が< 0.2 ppb、N200M & Hが< 40 ppbまでとされています。クリーンルームAMC製品カテゴリにはTOFWERK-Semicon AMC、TAPI、PMS、AMETEK MOCON、PerkinElmer、ABBが含まれ、VOC-CEMSカテゴリにはAMETEK MOCONの流速監視とZ/S自動チェック装置、piD-TECH TVOC Monitor、LNIガス発生器・校正器、HORIBA携帯型分析計、DURAG煙道不透過率分析計が含まれます。半導体の微量AMC監視では、TOFWERK Semicon AMCがイオン源、特許化されたイオン輸送フォーカシング、飛行時間技術を統合し、MA酸、MB塩基、VOCsを監視し、pptVレベルの測定限界、カスタマイズ可能なAMCデータベース、フラグメントなしの測定、毎秒のリアルタイムサンプリング・解析・出力、高感度、移動または多点測定を特徴として挙げています。対象物質としてacetic acid、HBr、HCl、HF、HNO3、sulfuric acid、ammonia、DMA、morpholine、NMP、cyclopentane、EA、ethyl acetate、ethyl benzene、HDMS、MeCl2、PFAS、PGME、PGMEA、phthalates、TEB、TEOS、benzene、toluene、acetone、EEP、fluorinated compounds、IPA、MEK、refrigerantsが列挙されています。技術比較ではHybrid DetectorとCavity Ring Downがppb、応答時間< 5 sec、GC-MS/Quadrupole MSがsub-ppb、応答時間> 30 min、ABC MonitorとVOC Monitorがppt、応答時間< 100 msとされています。同じTOFWERK製品情報の顧客としてNational Yang Ming Chiao Tung University、National University of Singapore、Korea Institute of Science and Technology、Korea Electric Power Corporation、Indian Institute of Tropical Meteorologyが挙げられています。Weltallの統合システムにはWelTof Cleanroom Multiport AMC Gas Monitoring System、SCADAデータ収集・処理統合、装置ネットワーク統合があり、その他の製品にはTOFWERKプロセスガス分析計、icpTOF質量分析計、WG300-AMSインテリジェント多点ガスサンプリング、F.A.STデュアルポートFOUP汚染監視があります。WelTofは顧客要件に合わせてTofwerk製品をオンライン多点サンプリング監視システムへ統合し、16CHから192CHのクリーンルーム向けカスタム設計、カスタマイズ・拡張可能な一般AMCデータベース、事前採取や試料処理なしの直接多点分析、スタンドアロン・移動・多点構成を提供します。カスタムソフトウェアでは2D、3D機能と未知物質追跡解析を提供でき、PTR-TOF技術を使ってpptレベルの複数の主要AMCを高速同時測定します。F.A.STはナノメートルプロセス段階のFOUP汚染監視を対象とし、ウェハキャリアの微汚染監視を歩留まり保護と搬送中の交差汚染回避につなげます。FOUP内のMolecular Acid、Base、Condensableをリアルタイム監視し、追加物質の測定へ拡張でき、高感度監視とカスタムデータ収集・処理により情報伝送と将来の統合に対応します。機能には警報・誤動作防止、定期保守・保証、監視項目のカスタマイズ、自動Load Port搬送、SECS通信、FOUP搭載状態の自動検知、OHT互換性、FOUP RFID認識が含まれます。TOFWERKのchemical-ionization mass spectrometryは、産業、ラボ、フィールド用途の揮発性有機・無機化合物を高感度かつリアルタイムで検出し、AMCソリューションは高速切替の飛行時間化学イオン化質量分析、1 Hz測定速度、ファブ内の複数用途に対応する構成を備えます。記載されている機能にはミリ秒級の超高速測定、動的プロセス監視または高スループットスクリーニング、主要AMCクラスの同時検出、pptV検出限界、堅牢な検出、高感度定量、正確な識別、試料前処理なしの移動分析または多ポート施設監視も挙げられています。これらを組み合わせ、クリーンルームAMC監視、排出配管VOC測定、FOUP汚染制御、多点サンプリング、SCADA統合、校正関連サービスを、半導体ファブ、電子産業設備、研究用途向けの監視システムとして提供します。
対応領域・製品
- クリーンルームAMCガス監視システム
- 排出配管VOC(NMHC/THC/CH4)検出
- ESG連続ガス監視システム
- 統合ガス監視・分析サービス
- 監視システムの計画・設計
- 監視データチャート制御ソフトウェア
- 現地監視配管工事
- 分析装置の定期保守・アフターサービス