沃亞科技股份有限公司

SEMICON Taiwan 2026 參展廠商 · 攤位 P5106

攤位 P5106國別 TW6 個產品主題
展會資訊

基本資料

攤位P5106
國別TW
網站www.woya.com.tw
展商資料

公司簡介

沃亞科技股份有限公司於 2007 年由一群具多年實務經驗的工程師成立,將「誠信、正義、勤奮、熱情」的態度與精神連結到企業文化,並以即時服務客戶為營運方向。公司總部位於台灣北部新竹,在中部台中以及南部台南、高雄設有客服中心。配合全球業務策略與主要客戶布局,公司設立美國 Phoenix 的 Welmade、日本 Kumamoto 的 Welsun、新加坡的 Welstar,並將中國的 Shanghai Miya 列為姊妹公司。公司的研發、業務與客服團隊提供潔淨室 AMC 氣體監測系統、排放管道 NMHC、THC、CH4 VOC 偵測器、ESG 連續氣體監測系統,以及針對電子產業與研究機構的整合式氣體監測分析與客製化方案。沃亞科技股份有限公司將自己定位為整合系統服務提供者,而不只是設備經銷商,服務涵蓋各式分析儀設備、監測系統規劃設計、資料圖表控制軟體、系統符合性測試、現場管線施工、系統操作教育訓練、定期維護與完整售後服務。公司列出的系統整合專業服務並搭配 ISO 9001:2015、ISO 45001:2018 與 ISO/IEC 17025:2017 等品質、職業安全與實驗室管理資格。2024.11.29,沃亞科技股份有限公司宣布取得 BSI 的 ISO 27001 Information Security Management System 認證。其服務類別包含 AMC 監測、VOC-CEMS、系統整合與校正實驗室,產品組合則把不同分析儀器與沃亞整合的監測系統及軟體結合。其監測與分析產品組合還包括 TOFWERK-Semicon AMC、TOFWERK Process Analyzer 與 icpTOF、WelTof Cleanroom Multiport AMC Gas Monitoring System、SCADA Software、WG300-AMS Intelligent multi-point sampling system、F.A.ST、TAPI、PMS、AMETEK MOCON-Baseline、Perkin Elmer、ABB、Flow Meter and Z/S Check System、piD-TECH TVOC Monitor 以及 LNI Gas Generator / Calibrator。合作技術包括 Teledyne API 在 San Diego 製造的精密空氣品質與工業氣體監測儀器、Particle Measuring Systems 的潔淨室 AMC 微污染監測分析儀器,以及 LNI Swissgas 的氣體產生器、氣體混合器與氣體校正器;LNI Swissgas 被描述為在這類分析實驗室氣體技術領域已有超過 30 年經驗。

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展出產品

TOFWERK TOFMS(Time of Flight Mass Spectrometer) 可進行即時 VOC 辨識與回報,以高質量解析力分離並準確定量互相干擾的同重量物種,並提供連續運轉、安全遠端存取與資料回報軟體,以及可在任意方向耐衝擊運作的結構。相關 FOUP 監測可快速同步偵測 MA、MB、MC 所代表的酸、鹼與有機物,支援全自動 Load Port 監測、以 RFID 辨識 FOUP ID,並相容 OHT 系統。排放監測功能包括同時量測 NMHC、THC、CH4,T90 < 30 seconds,偵測極限最低可達 0.06 ppm;也可同時監測 NO、NO2、NOx,依量測範圍 N200 最低 < 0.2 ppb,N200M & H 最低 < 40 ppb。潔淨室 AMC 產品類別包括 TOFWERK-Semicon AMC、TAPI、PMS、AMETEK MOCON、PerkinElmer 與 ABB;VOC-CEMS 類別則包括 AMETEK MOCON 流速監測與 Z/S 自動查核裝置、piD-TECH TVOC Monitor、LNI 氣體產生器與校正器、HORIBA 攜帶型分析儀及 DURAG 煙囪不透光率分析儀。針對半導體微量 AMC 監測,TOFWERK Semicon AMC 整合離子源、專利離子傳輸聚焦與飛行時間技術,監測 MA 酸、MB 鹼與 VOCs,列出的特點包含 pptV 等級量測極限、可客製 AMC 資料庫、無碎片量測、每秒即時採樣分析與輸出、高靈敏度,以及可移動或多點量測。列出的 Semicon AMC 物種包括 acetic acid、HBr、HCl、HF、HNO3、sulfuric acid、ammonia、DMA、morpholine、NMP、cyclopentane、EA、ethyl acetate、ethyl benzene、HDMS、MeCl2、PFAS、PGME、PGMEA、phthalates、TEB、TEOS、benzene、toluene、acetone、EEP、fluorinated compounds、IPA、MEK 與 refrigerants。技術比較列出 Hybrid Detector 與 Cavity Ring Down 為 ppb、反應時間 < 5 sec,GC-MS/Quadrupole MS 為 sub-ppb、反應時間 > 30 min,ABC Monitor 與 VOC Monitor 則為 ppt、反應時間 < 100 ms。相同 TOFWERK 產品資訊列出的客戶包括 National Yang Ming Chiao Tung University、National University of Singapore、Korea Institute of Science and Technology、Korea Electric Power Corporation 與 Indian Institute of Tropical Meteorology。沃亞的系統整合類別包含 WelTof Cleanroom Multiport AMC Gas Monitoring System、SCADA 資料收集處理整合與設備聯網整合;其他產品則包括 TOFWERK 過程氣體分析儀、icpTOF 質譜儀、WG300-AMS 智能多點式氣體採樣系統與 F.A.ST 雙埠 FOUP 微污染監測。WelTof 依客戶需求把 Tofwerk 產品整合成線上多點式採樣監測系統,可提供 16CH 至 192CH 的潔淨室多點客製設計、可客製或擴充的常見 AMC 資料庫、無需預先採集或處理樣品的直接多點分析,以及單機式、移動式或多點式配置。WelTof 也提供客製軟體,可包含 2D、3D 功能與未知物種追溯分析,並使用 PTR-TOF 技術快速同步量測 ppt 等級的多種關鍵 AMC。F.A.ST 用於奈米製程階段的 FOUP 微污染監測,將晶圓運送盒微污染偵測與製程良率保護以及避免晶圓運送過程交叉污染連結起來。F.A.ST 可即時監控 FOUP 內的 Molecular Acid、Base 與 Condensable,有需求時可擴充量測更多物種,並以高靈敏度監測搭配可客製資料收集處理系統,支援資訊傳輸與後續整合。其列出的 F.A.ST 功能包含預警與系統防呆、定期維護與保固、可客製監測項目、Load Port 自動化裝載運送、SECS 通訊、FOUP 裝載狀態自動感知、OHT 相容與 FOUP RFID 辨識。TOFWERK 的 chemical-ionization mass spectrometry 方案可對工業、實驗室與外場應用中的揮發性有機與無機化合物進行高靈敏度即時偵測,AMC 方案採用快速切換的飛行時間化學游離質譜,量測速度為 1 Hz,並可配置於晶圓廠內不同應用。列出的功能還包括毫秒級超快速量測、動態製程監測或高通量篩選、同步偵測關鍵 AMC 類別、pptV 偵測極限、穩健可靠偵測、高靈敏度定量、準確辨識,以及無需樣品前處理的移動分析或多埠設施監測。整體產品與服務把潔淨室 AMC 監測、排放管道 VOC 量測、FOUP 微污染控制、多點採樣、SCADA 整合與校正相關服務連結成面向半導體晶圓廠、電子產業設施與研究應用的監測系統。

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