基本資料
| 攤位 | I2001 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.teo.com.tw |
公司簡介
先鋒科技股份有限公司創立於 1987 年,是從事精密光學量測與光電儀器代理及系統整合業務的綜合性服務公司,相關領域與科研、工業生產及製造環節密切相關。公司位於台北市南港軟體園區,代理超過 100 家國外光電儀器、設備與系統生產商。產品範圍涵蓋多種光學與光電領域,公司將這些代理產品描述為各自領域內的技術領先產品。
展出產品
witec360 共軛焦拉曼顯微鏡以 Oxford Instruments 累積數十年的拉曼顯微鏡工程專業知識為基礎,面向學術研究、工業研發與品管及核心設施,作為高性能、研究級、模組化且可客製化的拉曼成像系統。witec360 的單一光譜採集時間可低於 1 毫秒,Hexalight 光譜儀則涵蓋從 UV 激發到 NIR 的 350 至 1100 nm,並採用專有透鏡式設計以實現寬頻運作。Hexalight 最多可安裝六個光柵並自動切換,採用 Olaf-Hollricher-Design 透鏡與電介質反射鏡以提升訊號強度與光譜形狀,並透過光纖耦合支援真正的共軛焦性、對比度、深度選擇性與空間解析度。系統可整合 PL、AFM、SHG、profilometry 與 SEM,Raman-AFM 整合則將拉曼化學資訊與形貌、黏附性及剛度等奈米尺度表面特性關聯。其共軛焦拉曼成像為無損、無標記且具分子特異性的分析工具,在使用 532 nm、100x 0.9 NA 物鏡時,可達到繞射極限,橫向解析度通常小於 300 奈米、軸向解析度小於 950 奈米。其深度解析度與共軛焦特性可在不破壞樣品的情況下揭示次表面結構,用於半導體、聚合物與塗層的多層分析;低頻拉曼模式可低至 10 cm⁻¹,用於石墨烯與 MoS₂ 等 2D 材料的層數識別。TrueSurface™ 利用整合在拉曼顯微鏡內的光學輪廓儀,對粗糙或彎曲樣品進行表面形貌引導的共軛焦拉曼成像;RISE 顯微鏡則在通用真空室中結合 SEM、EDS 與拉曼成像,進行表面結構與化學成分的關聯分析。軟體支援自動化工作流程、自動校準與使用者管理;ParticleScout™ 可自動尋找顆粒、取得拉曼光譜並依化學與物理屬性分類,TrueMatch™ 則用於管理拉曼光譜資料庫與辨識化合物。材料科學應用包括由拉曼峰位移進行高解析度應力與應變繪圖、晶體品質與材料轉變繪圖、熱塗層與材料失效分析、半導體計量學、多層分析,以及缺陷與內含物偵測。生命科學應用包括無損 2D 與 3D 化學成像、細胞器、脂質、蛋白質與核酸的無標記 3D 成像,以及神經退行性標記偵測、藥物輸送追蹤與惡性及健康細胞結構區分。製藥與品管應用包括對片劑、凝膠或乳液中的 API 分佈與均質性進行高解析度成像和地形分析,以及與劑型溶解度及生物利用度相關的拉曼多晶型物區分與分佈繪圖。更廣泛的光譜產品涵蓋拉曼、螢光、高光譜影像、光致螢光與電致發光高光譜影像、真空紫外光譜、量子效率測試、THz 光譜、UV 材料分析、半導體晶圓檢測、磁光角分辨量測、光源、光譜儀、樣品室、偵測器、微型光譜儀與相關配件。影像與檢測產品包括工業相機、AOI 檢測、USB 2.0 與 USB 3.0 相機、Gigabit Ethernet 與 HD-SDI 相機、高速攝影、紅外線測溫與熱影像、InGaAs 與 CMOS 影像、X-Ray 與科研相機、EMCCD、深致冷 CCD、sCMOS、影像增強 CCD 與 sCMOS、InGaAs 與 MCT 相機、X-Ray 檢測元件、CT、偏振相機、相機特性參數測定系統與雙折射量測。雷射與加工產品包括雷射功率與能量量測、光束分析與波長量測、IPG 光纖雷射、脈衝與連續光纖雷射、氣體與固態雷射、奈秒與超快雷射、OPO 與染料雷射、雷射安全防護產品、自適應光學、雷射振鏡與加工頭,以及雕刻、切割、焊接、剝線與清潔設備,並包括 Beam Expanders、衰減器、掃描鏡頭、紅外鏡片與雷射耗材。其他量測與科研產品包括輝度、色度、照度與輻射度量測、AR / VR / MicroLed 光學量測、積分球與 LED 遠場/近場系統、自動化光學測試、微弱訊號儀器、鎖相放大器與前置放大器、延遲產生器、光子計數器、多通道數據採集、真空與殘餘氣體儀器、製程監控、時間與頻率儀器、訊號產生器、FFT 與 LCR 儀器、電化學與分析儀器、低溫系統、磁性量測與生醫設備。光學元件與光子產品包括光電二極體與光接收器、矽、InGaAs、GaAs、鍺、InAs、PbS、PbSe、InSb 與 MCT 偵測器、光柵、介電質與金屬光學元件、Diffractive Optical Elements、光束整形與聚焦元件、透鏡、濾光片、WGP 線柵偏振片、奈米壓印模具、Microlens arrays、Photonic Band Gap 與 Meta structures、Microfluidics、石墨烯、鍍膜材料、奈米粒子、量子點螢光材料、LD 雷射二極體、LED、TEM GRIDS 與光學晶體。定位與計量產品包括電控與手動精密位移平台、直線、升降、旋轉、擺動、對位與多軸平台、光學桌與隔震平台、光學調整架、壓電與奈米定位平台、線性與微步進平台、花崗岩線性運動平台、POSITIONING HEXAPODS、MOTION HEXAPODS、顯微鏡平台與控制器、平面掃描顯微鏡、3D 量測、電容式位移量測、Laser Fizeau 干涉儀、非接觸式光學量測、磁場掃描顯微鏡、光學膜厚量測、橢偏儀、稜鏡耦合與干涉式膜厚量測。
能力與產品項目
- 精密光學量測光電儀器代理與系統整合
- 共軛焦拉曼顯微鏡供應
- 拉曼光譜系統供應
- 螢光光譜系統供應
- 高光譜影像系統供應
- 半導體晶圓檢測系統供應
- AOI檢測設備供應
- X-Ray檢測與CT設備供應
- 雷射功率能量量測設備供應
- 雷射加工設備供應
- AR/VR/MicroLed光學量測系統供應
- 殘餘氣體分析儀供應
- 光電二極體與探測器供應
- 繞射光學元件供應
- 精密位移平台供應
- 3D非接觸式光學量測設備供應
- 光學膜厚量測與橢偏儀供應
- 表面形貌引導共軛焦拉曼成像
- 光致螢光高光譜影像系統供應
- 電致發光高光譜影像系統供應
- 真空紫外光譜系統供應
- 量子效率測試系統供應
- THz太赫茲光譜系統供應
- UV材料物質分析系統供應
- 磁光角分辨量測系統供應
- 氘燈/氙燈/溴鎢燈光源供應
- 可調單色光源供應
- 複合式光源供應
- LED光源供應
- 光譜儀/單光儀供應
- 樣品室供應
- 單點偵測器供應
- 陣列偵測器供應
- 微型光譜儀供應
- 工業相機供應
- 高速攝影設備供應
- 紅外線測溫儀供應
- 紅外線熱像儀供應
- X-Ray相機供應
- 科研相機供應
- 弱光檢測設備供應
- 條紋相機供應
- 顯微鏡相機供應
- EMCCD相機供應
- 深致冷CCD相機供應
- sCMOS相機供應
- 高能X-Ray相機供應
- 影像增強CCD相機供應
- 影像增強sCMOS相機供應
- InGaAs相機供應
- MCT相機供應
- 相機鏡頭供應
- 校正標準片供應
- X-Ray光源供應
- X-Ray感測器供應
- X-Ray Window供應
- 偏振相機供應
- 相機特性參數測定系統供應
- 雙折射量測系統供應
- 雷射功率探測頭供應
- 雷射能量探測頭供應
- 功率/位置/大小探測器供應
- 雷射光束M2量測設備供應
- 雷射波長計供應
- 脈衝光纖雷射供應
- 綠光光纖雷射供應
- 紫外光纖雷射供應
- QCW準連續光纖雷射供應
- 連續輸出光纖雷射供應
- 氣體雷射供應
- 氦鎘雷射供應
- 氦氖雷射供應
- 氮氣雷射供應
- 準分子雷射供應
- CO2雷射供應
- 固態雷射供應
- 奈秒雷射供應
- 超快雷射供應
- 雙脈衝雷射供應
- OPO雷射供應
- 高能脈衝雷射供應
- 染料雷射供應
- 白光雷射供應
- 近/中紅外雷射供應
- 雷射護目鏡供應
- 雷射護目窗供應
- 雷射防護布簾供應
- 雷射防護屏障供應
- 焊接檢測系統供應
- 自適應光學系統供應
- 波前儀供應
- 形變反射鏡供應
- 雷射振鏡供應
- 雷射加工頭供應
- 雷射雕刻機供應
- 雷射深雕機供應
- 雷射切割機供應
- 非金屬雷射切割機供應
- 紫外雷射雕刻機供應
- 超快雷射加工機供應
- 準分子雷射加工機供應
- 雷射焊接機供應
- 雷射剝線機供應
- 雷射清潔機供應
- Beam Expanders擴束鏡供應
- 衰減器供應
- 掃描鏡頭供應
- 紅外鏡片供應
- 輝度/色度/照度計供應
- 角度/視角光學量測設備供應
- 積分球量測系統供應
- LED遠場/近場量測系統供應
- 自動化光學測試系統供應
- 均勻光源/校正光源供應
- 反射/穿透式霧度計供應
- 鎖相放大器供應
- 前置放大器供應
- 延遲產生器供應
- 快門/截光器供應
- 閘式積分器供應
- 光子計數器供應
- 多通道數據採集系統供應
- 真空計/控制器供應
- 大氣分析系統供應
- 製程監控系統供應
- 頻率標準供應
- 時間間隔/頻率計數器供應
- 射頻訊號產生器供應
- 音頻分析儀供應
- 訊號產生器供應
- 時脈產生器供應
- FFT分析儀供應
- LCR電錶供應
- 熱電偶監控器供應
- 恆電位儀供應
- 微量天平供應
- 熔點測定儀供應
- 二元氣體分析儀供應
- Cryostat低溫恆溫器供應
- 低溫探針台供應
- 曝光機供應
- 磁性量測系統供應
- 拉針儀供應
- NMR核磁共振分析儀供應
- 粉末/粉體量測設備供應
- 飛秒脈衝雷射供應
- 皮秒脈衝雷射供應
- 脈衝雷射二極體供應
- EDFA放大器供應
- YDFA放大器供應
- EYDFA放大器供應
- 光學調製器供應
- SOA和拉曼放大器供應
- 光接收器供應
- 矽光電二極體供應
- 銦鎵砷光電二極體供應
- 砷化鎵光電二極體供應
- 鍺探測器供應
- 砷化銦探測器供應
- 硫化鉛探測器供應
- 硒化鉛探測器供應
- 銻化銦探測器供應
- 碲鎘汞探測器供應
- 寬頻光電感測器供應
- PSD位置感測器供應
- 單光子系統供應
- 弱光與X-Ray探測器供應
- 光電倍增管供應
- 振動感測器供應
- 穿透式繞射光柵供應
- 介電質光學元件供應
- 金屬光學元件供應
- 光束整形元件供應
- 分光鏡供應
- 光束聚焦元件供應
- 透鏡供應
- 光纖端帽供應
- 錐透鏡供應
- 濾光片供應
- UV濾光片供應
- WGP線柵偏振片供應
- 奈米壓印模具供應
- Microlens arrays供應
- Blazed gratings供應
- Slanted Gratings供應
- Photonic Band Gap結構供應
- Meta structures供應
- Microfluidics元件供應
- 吸光貼膜供應
- 石墨烯材料供應
- XRF厚度標準片供應
- 鍍膜材料供應
- 高反射材料供應
- 奈米粒子供應
- 氣體偵測器供應
- 中紅外元件供應
- 染料/螢光劑供應
- 量子點螢光材料供應
- 微型固態光源供應
- LD雷射二極體供應
- LED發光二極體供應
- 光導管光源機供應
- 特殊/雷射氣體供應
- TEM GRIDS供應
- 光學晶體供應
- 電控精密位移滑台供應
- 電動直線滑台供應
- 電動升降滑台供應
- 電動旋轉滑台供應
- 電動擺動滑台供應
- 對位平台供應
- 多軸系統供應
- 控制器及驅動器供應
- 手動精密位移滑台供應
- 光纖專用位移台供應
- 光學桌板供應
- 阻尼隔震平台供應
- 氣浮隔震平台供應
- 桌上型隔震台供應
- 反射/分束鏡調整架供應
- 透鏡調整架供應
- 偏振元件調整架供應
- 濾光片固定架供應
- 稜鏡/圓柱體調整架供應
- 空間濾波產品供應
- 奈米定位壓電平台供應
- 線性滑軌平台供應
- 微步進電機平台供應
- 花崗岩線性運動平台供應
- 史都華六軸平台供應
- POSITIONING HEXAPODS供應
- MOTION HEXAPODS供應
- 顯微鏡平台供應
- 自動控制回授系統供應
- 平面掃描顯微鏡與部件供應
- 電容式位移計供應
- Laser Fizeau干涉儀供應
- 非接觸式傅立葉掃描顯微鏡供應
- 磁場掃描顯微鏡供應
- 橢偏儀供應
- 反射式膜厚儀供應
- 稜鏡耦合儀供應
- 干涉式膜厚儀供應