基本情報
| ブース | S7840 |
| 国 | CN |
| ウェブサイト | www.thwater.net |
会社概要
山東泰和科技股份有限公司はファインケミカルの研究開発と生産を行い、日本向け電子化学品輸出で 20 年を超える経験を持ちます。化学 R&D と生産能力を半導体製造に関連する電子化学品需要へ適用し、顧客と共同で電子化学品を開発するとともに、用途別のカスタム R&D に対応します。ラボでは分析・試験装置を使い、化学特性と用途性能を評価します。幅広い製品基盤にはホスホン酸とその塩、ポリカルボン酸系ポリマー、生分解性スケール・腐食防止剤、殺菌剤、水処理配合薬品、腐食防止剤、RO 薬品などのファインケミカルが含まれます。ファインケミカル生産、配合、分析試験、顧客別 R&D を組み合わせ、工業水処理と電子化学品開発の双方を支えます。
展示製品
水処理薬品には HEDP、PBTC、ATMP、DTPMPA、HPAA などのホスホン酸、HEDPNa4 四ナトリウム塩、DTPMPNa7 七ナトリウム塩、HMDTMPA K6 カリウム塩があります。ポリマーは PAA/PAAS、HPMA、PMA、AA/AMPS copolymer、MA-AA copolymer、生分解性スケール・腐食防止剤は PESA、PASP、殺菌剤は DDBAC/BKC、CMIT/MIT、glutaraldehyde、THPS を含みます。配合スケール・腐食防止剤、腐食防止剤、RO 薬品なども供給します。HEDPNa4 は HEDP の四ナトリウム塩で、分子式 C2H4O7P2Na4、分子量 294、仕様には x-Na 用 CAS 29329-71-3 と四ナトリウム型 CAS 3794-83-0 が記載されています。calcium carbonate scale を抑制し、低圧ボイラー、循環水、洗浄、プール水処理に使用されます。固体は水溶性で吸湿性の白色粉末で、HEDP 塩は iron、copper、zinc と安定な錯体を形成し、oxide deposit を溶解できます。250°C 以下でのスケール抑制も記載されています。循環冷却水、中低圧ボイラー、油田配管、電力、化学、冶金、肥料設備で使われ、洗剤、過酸化水素安定化、染料固着、非シアンめっきのキレートにも使用されます。液体仕様は HEDP 20.3 から 21.7%、HEDPNa4 29 から 31%、固体は HEDP 60%、HEDPNa4 85% です。PASP は分子量 1,000 から 5,000 で、amide と carboxyl 官能基を持つ生分解性ポリマーです。分散、スケール・腐食防止に使われ、工業水、ボイラー、RO、油田再利用水、淡水化で使用されます。高硬度、高アルカリ、高 pH、高濃縮条件に適し、CaCO3、CaSO4、BaSO4、calcium phosphate の析出を抑えます。液体は 40%、密度 1.20、pH 9 から 11 で、固体もあります。農業では尿素利用効率を 20 から 40% 向上、造粒率 97% と記載され、重金属土壌処理、油田腐食防止・粘度低減、洗剤にも使用されます。0.4% PASP で 70% を超える粘度低減とされています。PESA はリン・窒素を含まない生分解性のスケール・腐食防止剤で、CAS 51274-37-4 と 109578-44-1、分子量 400 から 1,500 です。高アルカリ、高硬度、高 pH、高濃縮条件で CaCO3、CaSO4、calcium fluoride、silica scale を抑制します。液体は有効分 40%、pH 10 から 12、固体は 90% で、油田補給水・原油脱水、ボイラー、鉄鋼・石油化学・電力・製薬の循環水、淡水化、膜システム、洗剤に利用されます。CMIT/MIT は isothiazolinone 系殺菌混合物で、CAS 26172-55-4 と 2682-20-4、分子量 115.16 です。一般細菌、真菌、藻類を抑制し、工業循環冷却水、排水、油田、製紙、農薬、切削油、皮革、洗剤、化粧品で使用されます。2%、4%、8% または顧客指定濃度があり、Grade I 有効分 14 から 15%、Grade II は 2% 以上です。sludge stripping は 150 から 300 ppm、通常の殺菌は 3 から 7 日ごとに 80 から 100 ppm、工業 fungicide は 0.05 から 0.4% と記載されています。DDBAC/BKC benzalkonium chloride も殺菌剤です。AA/AMPS copolymer はポリマー系スケール抑制・分散剤で、DTPMPNa7 と HMDTMPA K6 は HEDPNa4 とともに可溶性ホスホン酸塩群を構成します。RO 専用薬品と配合型スケール・腐食防止剤も提供します。半導体・電子化学品向けには、R&D チームが用途別配合開発と分析検証を行えます。全体として単一有効成分、塩、ポリマー、生分解性代替品、微生物制御剤、そして水・工程・膜・工業システム向け配合プログラムを供給します。 HEDPNa4 の用途は単一の水系に限られず、油田配管、電力、化学、冶金、肥料の循環系にも広がります。金属イオンとの chelation 特性は detergent、hydrogen-peroxide stabilization、dye fixing、non-cyanide electroplating にも利用されます。PASP は一つのポリマーで dispersing、scale inhibition、corrosion inhibition、biodegradability を組み合わせ、PESA は non-phosphorus、non-nitrogen の化学構成を持つ別の生分解性選択肢です。CMIT/MIT は sludge stripping、定期的な微生物制御、工業 fungicide で投入量が異なり、用途に応じて濃度を選択します。これらの単剤は、会社の formulated scale/corrosion inhibitor や membrane / RO 処理シリーズと組み合わせて使用できます。さらに、HEDPNa4、DTPMPNa7、HMDTMPA K6 のような塩型製品は水溶性ホスホネートの選択肢を増やし、AA/AMPS のようなコポリマーは分散・スケール制御のポリマー選択肢を広げます。PASP と PESA は高硬度・高アルカリ条件を対象としながら、従来のホスホネートとは異なる生分解性材料として位置付けられます。CMIT/MIT と DDBAC/BKC は微生物制御側の製品群を形成し、同じ水処理ポートフォリオの中でスケール、腐食、微生物という異なる課題を分担します。 そのため、原料単品から配合薬品まで、水質と工程条件に応じて段階的に選択できます。 工程別に組み合わせ可能です。 各用途に対応します。
対応領域・製品
- 電子化学品のカスタム研究開発
- HEDP有機ホスホン酸系スケール・腐食抑制剤
- PBTC有機ホスホン酸系スケール・腐食抑制剤
- ATMP有機ホスホン酸系スケール・腐食抑制剤
- DTPMPA有機ホスホン酸系スケール・腐食抑制剤
- HPAA有機ホスホン酸系スケール・腐食抑制剤
- 固体EDTMPA有機ホスホン酸
- HMDTMPA有機ホスホン酸
- PAPEMPポリアミノポリエーテルメチレンホスホン酸
- BHMTPMP有機ホスホン酸
- HEMPAヒドロキシエチルアミノジメチレンホスホン酸
- TETHMPホスホン酸ナトリウム塩
- DTPA·Na5キレート剤
- ATMP•Na4四ナトリウム塩
- ATMP•Na5五ナトリウム塩
- HEDP•Na一ナトリウム塩
- HEDP•Na2二ナトリウム塩
- HEDP•Na4四ナトリウム塩
- HEDP•K2カリウム塩
- EDTMP•Na5五ナトリウム塩
- DTPMP•Na7七ナトリウム塩
- DTPMP•Na2ナトリウム塩
- PBTC•Na4ナトリウム塩
- HMDTMPA•K6カリウム塩
- BHMTPH•PN(Na2)部分中和ナトリウム塩
- PAAポリアクリル酸
- PAASポリアクリル酸ナトリウム
- HPMA加水分解ポリマレイン酸無水物
- PMAポリマレイン酸
- AA/AMPS共重合体
- MA/AAマレイン酸・アクリル酸共重合体
- アクリル酸・アクリル酸エステル・ホスホン酸・スルホン酸塩四元共重合体
- アクリル酸・アクリル酸エステル・スルホン酸塩共重合体
- PCAホスフィノカルボン酸
- カルボン酸塩・スルホン酸塩共重合体
- カルボン酸塩・スルホン酸塩・非イオン三元共重合体
- カルボン酸塩・スルホン酸塩・アクリル酸エステル三元共重合体
- 水性分散剤
- 製紙黒液蒸発器用スケール抑制剤
- セラミック分散剤
- PESAポリエポキシコハク酸ナトリウム
- PASPポリアスパラギン酸ナトリウム
- DDBAC/BKC塩化ベンザルコニウム殺菌剤
- グルタルアルデヒド殺菌剤
- THPS硫酸テトラキスヒドロキシメチルホスホニウム殺菌剤
- 複合殺菌剤
- スライム剥離剤
- リン不使用スケール・腐食抑制剤
- ボイラー用スケール・腐食抑制剤
- 暖房水系用スケール・腐食抑制剤
- 製鉄所用スケール・腐食抑制剤
- 発電所用スケール・腐食抑制剤
- 油田再注入水用スケール抑制剤
- バリウム・ストロンチウムスケール抑制剤
- 含じん水用スケール抑制剤
- 高硬度水用スケール・腐食抑制剤
- 低硬度水用スケール・腐食抑制剤
- 密閉循環系用腐食抑制剤
- 運転中洗浄剤
- 脱脂洗浄剤
- 前処理皮膜形成剤
- TTA•Naトリルトリアゾールナトリウム
- TTAトリルトリアゾール
- BTA•Naベンゾトリアゾールナトリウム
- BTAベンゾトリアゾール
- MBT•Naメルカプトベンゾチアゾールナトリウム
- MBTメルカプトベンゾチアゾール
- 塩酸洗浄用腐食抑制剤
- 脱酸素剤
- シクロヘキシルアミン
- モルホリン
- 逆浸透膜用スケール抑制・分散剤
- 逆浸透膜用酸性洗浄剤
- 逆浸透膜用アルカリ性洗浄剤
- スルホコハク酸ジエチルヘキシルナトリウム
- 塩化アセチル
- グルタミン酸ジ酢酸四ナトリウムキレート剤
- メチルグリシンジ酢酸三ナトリウムキレート剤
- IDS·Na4イミノジコハク酸四ナトリウム
- 脂肪族アルキルジメチルアミンオキシド
- 濃度カスタマイズ対応CMIT/MITイソチアゾリノン殺菌剤
- ジクロロイソシアヌル酸