基本資料
| 攤位 | S8345 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.pyc.com.tw |
公司簡介
規格 內容｜機台名稱：ASTRON（單晶圓清洗機）｜型號：SWC3008、SWC3012、SWC3016｜腔體數量：8、12、16｜最大產能（片/小時）：480、依使用者規格、依使用者規格｜尺寸（mm）寬：2,230、2,300、2,300；長：2,165、2,760、2,760；高：3,150、2,450、3,150｜用途：清洗與蝕刻｜晶圓尺寸：300mm（可選 200mm）｜裝載埠數量：3 或 4｜廠務自動化：OHT、AGV｜化學品：酸、鹼、IPA、熱 DIW、DIW｜機械手臂：2 支，用於 EFEM 與主機（MTR）｜化學品噴注：正面與背面同時｜乾燥：IPA 液體 + N2｜選配：Megasonic、Nanospray｜均勻度：5%。
能力與產品項目
- 300mm 晶圓清洗，支援 200mm 選配
- ASTRON SWC3008/SWC3012/SWC3016 單晶圓清洗機
- Megasonic 與 Nanospray 單晶圓清洗選配
- 單晶圓清洗與蝕刻
- 正反面同步化學注入
- 每小時 480 片單晶圓清洗機產能