HONG-MING TECHNOLOGY CO., LTD.

SEMICON Taiwan 2026 참가업체 · 부스 I2101

부스 I2101국가 TW제품 주제 10개
전시회 정보

기본 정보

부스I2101
국가TW
웹사이트www.hmtech.com.tw
참가업체 정보

회사 소개

HONG-MING TECHNOLOGY CO., LTD.는 2002년에 설립되었으며 자사를 전문 광학 측정 시스템 제조업체로 설명합니다. 설계, 연구개발, 제조, 시스템 통합을 결합해 맞춤형 광학 측정 솔루션을 제공합니다. 광학 측정 전문 분야에는 투과율, 반사율, 색도, 광학 박막 두께, 이미지 검사, 초분광 이미징, 현미 분광이 포함됩니다. 또한 Precision Custom Spectroscopy와 DUV Metrology를 기술적 포지셔닝의 일부로 강조합니다. 회사는 정밀 맞춤 분광 업무에서 맞춤형 분광 기기를 개발하고 고객 요구에 맞춘 맞춤형 광학 검사 시스템을 설계하고 조립합니다. 형광 분광, 라만 분광, 근적외선 분광 측정 분야에서도 다년간의 경험을 보유한다고 설명합니다. 최근 R&D 중점에는 로봇 응용, 자동 인라인 검사, 초분광 시스템 개발, 머신 비전 기술이 포함됩니다. 광학 측정 시스템은 광학 코팅, 필름 소재, PLED and OLED, Micro LED, 태양전지, silicon wafer의 연구개발, 제조 및 품질 관리에 사용됩니다. 응용 분야에는 일반 생물 및 화학 실험, 표면 처리, 발광 소재, 바이오칩, MEMS도 포함되며 광학 특성 검사 기술과 자동화를 통합합니다. 회사는 광학 검사 장비의 연구개발, 생산, 설계, 유지보수 경험과 기술을 보유하며 고객 요구에 맞는 맞춤형 광학 검사 시스템을 설계하고 조립할 수 있다고 설명합니다. 또한 물리·화학 실험 관련 국내외 장비, 소모품, 약품을 대리 판매해 분광 응용 제품의 공급 범위를 넓힙니다. 2016년 Hong-Ming Technology Calibration Laboratory를 설립했고 2017년 7월 TAF (Taiwan Accreditation Foundation)가 부여한 ISO/IEC 17025 인증을 통과했습니다. 회사는 이 인증으로 해당 실험실이 세 번째 공정 인증 교정 기관이 되었으며 HONG-MING TECHNOLOGY CO., LTD.가 10년이 넘는 맞춤형 광학 측정 솔루션 제공 경험을 갖고 있다고 설명합니다.

참가업체 정보

전시 제품

투과율 및 흡수율 측정 서비스는 200-1700nm를 지원하며 산란 또는 비산란 투명·반투명 시료를 측정할 수 있습니다. 대상에는 유리, 아크릴, PET, RGB 컬러 필터, 광학 코팅 시편, 각종 안경 렌즈, 편광판, 확산판, 박막 태양전지, UV-IR cut 부품, 일반 또는 미세 렌즈, 터치패널 유리, IR 홀, ICON 홀, 청색광 차단 보호 필름, 기능성 필름, 각종 용액, 생물 세포 등이 포함됩니다. 반사율 측정도 200-1700nm 범위를 지원하며 산란 시료에는 8/D 또는 D/8 적분구 방식을, 비산란 시료에는 가변 각도 플랫폼의 절대 반사 측정 방식을 사용합니다. 반사율 측정 대상에는 유리, 아크릴, PET, RGB 필터, 광학 코팅, 안경 렌즈, 반사경, 반사 방지 미러, 확산판, 태양전지, 바이오칩, 평면 또는 곡면 시료가 포함됩니다. LED 색상 및 광속 측정, 색채 측정, 광학 박막 두께 측정도 제공합니다. 색채 측정에서는 투과광과 반사광에 확산 성분과 정반사 성분이 포함되고 발색 메커니즘이 서로 다르므로 검사 전에 측정 방식을 논의해야 한다고 설명합니다. 광학 박막 두께 측정 대상에는 SiO2, SiNOX, ITO, ZnO, CuO 등을 유리, 아크릴, PET, Silicon wafer에 코팅한 박막, GaN on Sapphire, 컬러 필터, 태양전지가 포함됩니다. HONG-MING TECHNOLOGY CO., LTD.는 장비 평가를 돕기 위해 1회의 무료 측정 서비스와 측정값을 제공할 수 있다고 설명합니다. MFS-630-DUV는 심자외선 가변 각도 투과 및 반사 측정 시스템으로 투과율과 절대 반사율을 측정하고 흡수율을 자동 계산합니다. Deep UV 연구개발을 위해 질소 충전과 저온 제어 환경으로 공기 간섭을 줄이고 기준 시편 열화에 따른 데이터 편차를 피하도록 절대 측정 광경로를 사용합니다. 파장 범위는 190-510 nm 또는 고객 요구에 따른 맞춤 범위이며 광학 분해능은 1 nm-5 nm, 투과와 반사 측정 각도는 모두 10°-70° 연속 가변이고 전체 스펙트럼 스캔은 약 30분입니다. 고정밀 Monochromator, Deuterium Lamp, DUV Silicon Sensor를 사용하고 N2 Purge 및 저온 제어 환경 측정을 지원합니다. 응용에는 반도체 전공정 Photoresist 특성 분석과 Reticle 반사율 검사, DUV 협대역 필터, 반사 방지막 및 고반사 미러, RGB 필터, IR-cut 제거율과 편광 렌즈, 바이오칩 기판 형광 배경 분석, 단백질 흡광도 변화 추적이 포함됩니다. 특수 시료 지그나 특정 파장 요구에 맞춘 맞춤 설계도 가능합니다. Hyperspectral Imaging System은 할로겐 광원 400-800nm 및 400-1000nm, 제논 광원 300-800nm 및 300-1000nm, 근적외선 가변 파장 900-1700nm를 제공하며 맞춤 파장 범위도 지원합니다. 기타 사양은 평균 램프 수명 1000hr, SMA905 또는 맞춤 도광 섬유 커넥터, 2nm 스펙트럼 분해능, 10nm VIS 반치폭, ±2nm 재현성, 50nm/sec 스캔 속도, RS232와 USB 제어 인터페이스, 110V입니다.

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