基本情報
| ブース | T9035 |
| 国 | CN |
| ウェブサイト | grandit.com.cn/products/typeid/1.html |
会社概要
GrandiT Co., Ltd は 2017 年 12 月に設立され、Zhejiang Juhua Co., Ltd. と China Integrated Circuit Industry Investment Fund Co., Ltd. を主要投資者とし、登録資本金は RMB 14.77 億元です。2021 年には浙江省の国有企業混合所有制改革の典型事例に選定され、2022 年には国家科改示範企業に指定され、2023 年 9 月 8 日に上海証券取引所 STAR Market へ上場し、証券コードは 688549 です。GrandiT Co., Ltd は半導体製造支援産業に注力し、電子ウェットケミカル、電子特殊ガス、前駆体材料を継続的に開発しています。電子化学材料を中核とする半導体支援ポートフォリオを維持しながら、より広い半導体材料と関連部品へ事業範囲を拡張する方針です。顧客範囲は世界の半導体基板メーカー、装置企業、ウェハメーカーとファウンドリ、パッケージング企業に及び、標準品とカスタマイズ製品・サービスを提供します。高純度石英材料も、より広い半導体材料分野への拡張方向として挙げられています。R&D は代替性 R&D、カスタマイズ R&D、先端 R&D を含み、変化する半導体製造プロセス要件に製品開発を対応させています。事業方針は顧客需要を起点に製品ポートフォリオと統合ソリューションを組み合わせ、イノベーションによって集積回路製造プロセスの継続的な進歩に対応することです。対象分野は半導体ウェハ製造だけでなく、シリコン／化合物基板製造、半導体ディスプレイ製造、光ファイバー・プリフォーム製造、太陽光発電製造、そのほかの関連生産分野にも広がります。
展示製品
Electronic Grade Hydrofluoric Acid (HF) は半導体ウェハ製造向けの化学品で、純度は Semi G5、洗浄とエッチング工程に使用されます。HF の包装は 500ml ボトル、4L ボトル、200L ドラム、ISO タンクコンテナを含み、同じ電子グレード薬液を複数の形態で供給できます。ウェハ洗浄では酸化膜除去に使用され、ほかの酸と組み合わせて金属イオンなどの汚染物質を除去できます。エッチングでは高精度の二酸化シリコン絶縁層または分離層の加工に用いられ、イオン注入後の処理ではドープガラス層を除去できます。HF 製品は超高純度、低粒子、高い濃度制御精度を特徴とし、顧客要件に合わせて複数の包装形式に対応します。Electronic Grade Sulfuric Acid (H2SO4) も Semi G5 純度で、500ml ボトル、4L ボトル、200L ドラム、ISO タンクコンテナで供給されます。電子グレード硫酸は半導体ウェハ製造の洗浄、エッチング、フォトレジスト除去に使用されます。高い酸化性、強酸性、低金属不純物という特性を持ち、半導体製造用途に対応します。HF と同様に Semi G5 硫酸は超高純度、低粒子、高い濃度制御精度を備え、複数の包装要件に対応します。これらの電子グレード酸は、電子ウェットケミカル、電子特殊ガス、前駆体材料、カスタマイズ電子化学製品・サービスを含む GrandiT Co., Ltd の半導体製造支援ポートフォリオの一部です。
対応領域・製品
- ウェハー洗浄・エッチング用電子グレードフッ化水素酸（HF）
- ウェハー洗浄・レジスト除去用電子グレード硫酸（H2SO4）
- 電子材料用特殊ガス
- 半導体用前駆体材料