DAS Asia Ltd. Taiwan Branch

SEMICON Taiwan 2026 出展社 · ブース J2346

ブース J2346国 TW製品トピック 6 件
開催情報

基本情報

ブースJ2346
国TW
ウェブサイトwww.das-ee.com
出展社情報

会社概要

DAS Environmental Expert GmbHは、排ガスおよび排水処理向けの環境技術システムを開発・製造し、半導体、太陽光、LED製造などの技術産業にスケーラブルな処理ソリューションを提供します。事業は1991年に設立され、ドイツのドレスデンに本社を置き、排ガス・排水処理システムの開発、生産、サポートを行う長期的な組織基盤を持ちます。DAS EEは世界10拠点で950人を超える従業員を擁するとし、環境処理事業に国際的な運営・サービス体制を備えています。ハイテク顧客は数千台のDAS EE除害装置を使用しており、サービスチームは24/7で保守でき、大規模な設置実績と継続保守能力を組み合わせています。半導体分野では、製造工程、電力使用、より広いサプライチェーンに関連する温室効果ガス排出の削減を課題とし、半導体エコシステムについて示されるScope 1、Scope 2、Scope 3の排出区分を扱います。その排出削減活動の中で、DAS EEはカスタムBurn-Wetシステムを提供し、Destruction and Removal Efficiency性能をCO2排出量40%削減という記載目標の支援に結び付けています。このため処理ポートフォリオは半導体その他の技術製造向け排ガス除害と排水処理の両方を対象とし、サービスは設置済み処理装置から24時間体制の保守まで広がります。

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展示製品

OTTELIAはプロセス排水から二酸化ケイ素(SiO2)粒子を除去し、特に半導体製造の湿式化学洗浄およびエッチング工程で発生する排水を対象とします。これらの湿式化学・エッチング排水中のSiO2粒子を対象とすることで、OTTELIAは排ガス処理ではなく、半導体生産の排水側にある特定の粒子除去要求に対応します。TILIAは、自然発火性、フッ素系、有毒、または長寿命の環境有害ガスと反応生成物を処理するシステムで、一つの処理プラットフォームで複数の危険なプロセスガスと副生成物のカテゴリーを扱います。TILIAは設置面積に対する処理量の効率も特徴とし、危険ガス処理の役割と設置面積内で得られる処理能力を結び付けています。TSUGAはアンモニアを用いた選択触媒還元(SCR)によりNOxを最大95%低減し、さらに膜フィルターで粒子状物質を最大99.9%除去し、ガス反応処理と粒子ろ過を一つのシステムに統合します。Particle Separatorsは排ガス流から粉じん、エアロゾル、凝縮物を除去し、用途に応じて静電場で微細・超微細粒子を捕集する方式、または遠心力による機械分離方式を使用します。EDC(Electrostatic Dust Collector)は静電式マイクロ・ナノ粒子分離器で、粒子やエアロゾルに汚染されたプロセス排ガスを使用点で直接処理し、粒子制御をプロセス源の近くに配置します。OTTELIA、TILIA、TSUGA、Particle Separators、EDC、カスタムBurn-Wetシステムを合わせることで、排水中粒子、危険排ガス、NOx、粒子状物質、粉じん、エアロゾル、凝縮物、より広いガス除害要求まで、半導体製造に関係する環境処理領域をカバーします。

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対応領域・製品

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