基本情報
| ブース | N0970 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.avvatech.com |
会社概要
AVVA R&D Corp.は2003年に設立され、当初は顧客要件に応じたカスタム装置と光機械または光電機械モジュールを提供していました。市場ニーズと技術の進展に伴い、同社は装置販売と技術サービスを組み合わせた顧客志向の技術サービス企業へと発展しました。チームには専門分野の研究開発人材に加え、定期的に顧客と直接やり取りする営業およびFAE人材が含まれます。AVVAは国際的な顧客との長期関係を築いており、その一部からは新たなプロセス課題の共同解決を依頼されているとしています。長期顧客としてCHIPBOND、ASE、PTI、Amkor、NXP、KYEC、TSMC、Winstekが挙げられています。ESD保護向けに開発されたHermes超純水帯電防止システムは、超純水が動的に流れている間も抵抗率を高精度範囲内に維持するよう設計されています。AVVAは、台湾の国際的に著名な半導体組立・テスト企業の多くがすでにこのシステムの密接な顧客であるとしています。顧客層の拡大に伴い、AVVAは競争力を維持し、市況が弱い時期にも成長したとしています。顧客対応は、技術者、営業、FAE、顧客のプロセスチームが継続的に直接やり取りする形を基盤としています。装置、エンジニアリングサービス、顧客との対話、プロセス制御技術の組み合わせが、AVVAの顧客志向の技術サービスモデルを構成します。明示されたパートナーにはMacrotech Technologyも含まれ、AVVAが挙げる他の半導体顧客・パートナー関係と並んでいます。
展示製品
AVVAの現在の主力製品はCO2 Bubblerで、Laser Grooving 3D Profiling、I-Artist、I-Warehouseは最近開発に成功した製品として挙げられています。製品ページにはHermes CO2 Bubbler、AOI、Metis Magic Water、ESD Nozzle、AGVも掲載されています。HERMESシリーズはもともと半導体プロセスの静電気除去に用いられ、精密な制御機能が顧客から評価されています。HERMES CO2 Bubblerの顧客用途は、ダイシングソー、ウェハ研削、レーザーグルービングの各プロセスに広がっています。同社は濃度比制御技術を薬液装置にも応用し、薬液と超純水の混合比をより精密に定量化できるようにしています。2台を一体化した設計は、顧客が必要とするクリーンルーム空間の削減を目的としています。これらの製品とサービスを通じて、AVVAはカスタム装置、光電機械モジュール、プロセス指向の技術サービス、ESD関連の制御技術を組み合わせて半導体顧客に対応しています。HERMESの濃度制御は、ESD制御用途から、薬液と超純水の混合比を定量化するプロセス制御機能へと展開しています。高精度の抵抗率制御、濃度比制御、工程別装置統合の組み合わせは、AVVAが挙げる複数の半導体生産工程で活用されています。
対応領域・製品
- カスタム装置・光電機械モジュール
- CO2 Bubbler供給
- HERMES超純水帯電防止システム
- 薬液・超純水の混合比制御