基本資料
| 攤位 | N0970 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.avvatech.com |
公司簡介
AVVA R&D Corp. 成立於 2003 年，初期依客戶需求提供客製化機台，以及光機械或光機電模組。隨著市場需求與技術進展，公司逐步發展為客戶導向的技術服務型企業，並結合機台銷售與技術服務。其團隊包括專業研發人才，以及定期與客戶直接互動的業務與 FAE 人員。AVVA 表示已與多家國際級客戶建立長期合作關係，其中部分客戶會委託公司共同解決新的製程問題。具名的長期客戶包括 CHIPBOND、ASE、PTI、Amkor、NXP、KYEC、TSMC 與 Winstek。為 ESD 防護開發的 Hermes 超純水抗靜電系統，可在超純水動態流動時，持續將電阻率控制於高精度範圍。AVVA 表示，台灣多數國際知名的半導體封裝與測試公司已是此系統的密切客戶。隨著客戶群擴大，AVVA 表示其仍維持競爭力，並在景氣不佳期間持續成長。公司的客戶服務模式建立在技術人員、業務、FAE 與客戶製程團隊之間的持續直接互動。機台、工程服務、客戶互動與製程控制技術的結合，共同構成 AVVA 以客戶為導向的技術服務模式。具名合作夥伴亦包括 Macrotech Technology，並與 AVVA 已列出的其他半導體客戶與合作關係並列。
展出產品
AVVA 目前以 CO2 Bubbler 為主要產品，並將 Laser Grooving 3D Profiling、I-Artist 與 I-Warehouse 列為近期研發成功的產品。其產品頁面亦列出 Hermes CO2 Bubbler、AOI、Metis Magic Water、ESD Nozzle 與 AGV。HERMES 系列產品原本用於半導體製程的靜電消除，並以精準控制功能獲得客戶肯定。HERMES CO2 Bubbler 的客戶應用已涵蓋晶圓切割機、晶圓濕式研磨與雷射切割等製程。公司也將其濃度比例控制技術延伸至藥液機，使藥液與超純水的混合比例能更精準地量化。雙機整合設計的目的在於減少客戶所需的無塵室空間。在這些產品與服務中，AVVA 結合客製化機台、光機電模組、製程導向技術服務，以及與 ESD 相關的控制技術來服務半導體客戶。HERMES 的濃度控制技術從 ESD 控制應用延伸到製程控制功能，用於量化藥液與超純水的混合比例。精準電阻率控制、濃度比例控制與製程專用設備整合的組合，被 AVVA 應用於其列出的多個半導體生產步驟。
能力與產品項目
- 客製化機台與光機電模組
- CO2 Bubbler 供應
- HERMES 超純水靜電消除系統
- 藥液與超純水混合比例控制