Alinc Taiwan Co., Ltd.

SEMICON Taiwan 2026 出展社 · ブース I3100

ブース I3100国 TW製品トピック 7 件
開催情報

基本情報

ブースI3100
国TW
ウェブサイトwww.alinc.com.tw
出展社情報

会社概要

Alinc Taiwan Co., Ltd.は2005年に設立され、先進的なレーザー加工装置を専門とし、レーザーを用いた製造技術と、その技術を生産へ適用するための装置を事業の中核としています。同社は日本原子力研究所(JAERI)の研究チームが開発した製品の独占代理店を務め、研究由来の製品を自社のレーザー加工・装置サービスに組み込んでいます。近年はCo-Packaged Optics(CPO)の量産に向けた全自動装置を積極的に開発し、装置開発を先端光学パッケージング用途へ広げています。また、高精度ガラス部品の開発代理も行い、レーザー装置事業と精密光学・ガラス部品開発を結び付けています。サービス範囲はレーザー加工装置、関連スペアパーツ、光学装置、消耗品の販売に加え、レーザー機械の応用に関する専門コンサルティングを含みます。さらに、MEMS向けにレーザー装置を用いた受託加工を提供し、生産工程上の技術課題の解決と精度・効率の確保を支援しています。

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展示製品

取扱装置にはWOP、NITTOKU、KIT、PICOSUN、SHINCRONが含まれ、部品・材料にはWOP、NSG、NITTOKU、ELEPHANTECH、SANYU REC、SUZUKO、半導体工程用ダイシングテープ、ダイシングブレードが含まれます。RAS-1100C二槽式スパッタ成膜装置は、自社開発のRAS法(Radical Assisted Sputtering)を採用し、光学膜や機能膜形成向けの小型候補機として示されています。RASプロセスにより、低温で良好な再現性を保ちながら波長安定性の高い高品質光学薄膜を形成でき、装飾膜を含む機能膜や窒化膜にも対応します。SHINCRONのMIC1350シリーズ、MIC-1350-DSN-Lを含む装置は高精度イオンアシスト光学コーティングシステムで、AR反射防止膜、DBRブラッグ反射鏡、ODR全方向反射鏡の工程に使用できます。用途は光学、LED、タッチパネル、太陽光関連製品の生産に及びます。PICOSUNのALDシステムは研究、生産、生産研究開発、パイロット生産向けに最適化され、R-200は高度なプラズマアシストALDシステムとして示されています。反応器は2インチから18インチ、50 mmから450 mmのウェハ、三次元物体、多孔質基板への成膜に対応します。反応器チャンバーには耐腐食性プロセス材料を使用し、各種前駆体、異なるチャンバー寸法、手動・自動基板搬送、オゾン・窒素・プラズマ発生器を追加してアップグレードできます。WOP FemtoGLASS Laser Dicing Machineはフェムト秒レーザーで熱影響を小さくし、硬脆材料や微小光学部品の側壁応力とクラックを大幅に低減します。円形、非円形、矩形に切断でき、高い垂直度と非常に細かな表面粗さが示されています。KITのFilter Inspection 5u高反射率Dicing AOIも製品リストに含まれます。NITTOKU iTS-LRW210 RFIDリーダーはRS-232C、RS-485、Ethernetを搭載し、通信用CPUを備えたデュアルプロセッサ構成でSECS通信に対応し、Ethernet上のSECS通信機能も内蔵します。

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