Texwipe Asia

SEMICON Taiwan 2026 國際半導體展 參展廠商 · 攤位 S7330

攤位 S7330國別 PH2 個產品主題
展會資訊

基本資料

攤位S7330
國別PH
網站asia.texwipe.com
展商資料

公司簡介

Texwipe Asia 將 Texwipe 描述為污染控制用品與關鍵清潔產品領域的全球及市場領導者,並表示在此領域擁有超過 55 年經驗。公司稱 Texwipe 是業界廣為認知的名稱,並將擦拭技術創新視為污染控制業務的重要特色。其擦拭技術開發包括取得專利的 sealed-border technology,作為潔淨室耗材所採用的技術方法之一。Texwipe 亦採用 Vectra® continuous wiper cleaning process,作為擦拭布製造與清潔技術的一部分。公司表示致力於生產高品質 cleanroom consumable products,並持續投資 technology、innovation 與 quality,以建立並維持 state-of-the-art systems。Texwipe 專注支援 Microelectronics Industry,並持續開發對應微電子與半導體製造特殊需求的產品。在此製造情境中,公司所述核心範圍仍聚焦 contamination-control supplies、critical-cleaning products、wiper technology 與 cleanroom consumables,而非一般性的工業產品組合。

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展出產品

Texwipe Asia 所述的受控製造環境供應範圍,核心為污染控制用品、關鍵清潔產品與 cleanroom consumable products。潔淨室擦拭技術方面,產品與取得專利的 sealed-border technology 相關,為擦拭產品邊緣提供特定製造方式。Vectra® continuous wiper cleaning process 是另一項具名擦拭技術,與 sealed-border 方法共同構成其 wiper technology。這些產品建立在 contamination control 與 critical cleaning 的應用脈絡中,公司並將擦拭技術連結到 cleanroom consumable production。Texwipe 明確指出其專注支援 Microelectronics Industry,將污染控制與清潔能力連結到微電子生產環境。公司也表示會持續針對 Microelectronics 與 Semiconductor manufacturing 的特殊需求進行產品創新,使這些製造需求成為其潔淨室與污染控制開發的直接重點。持續投入 technology、innovation 與 quality,則用於建立並維持支援 cleanroom consumable 與 critical-cleaning 生產承諾的系統。污染控制用品、關鍵清潔產品、專利擦拭技術、Vectra® 製程與潔淨室耗材共同形成 Texwipe Asia 所描述、面向微電子與半導體製造支援的供應範圍。

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能力與產品項目

主題群組

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