基本情報
| ブース | T9404 |
| 国 | SE |
| ウェブサイト | solinide.com |
会社概要
Solinide Photonics AB は、スウェーデンの Gothenburg を拠点とする Chalmers University のスピンオフで、次世代 datacenter と AI infrastructure 向けの silicon nitride optical microcombs を開発しています。同社の microcombs は、AI datacentre interconnects の co-packaged optics で多数のディスクリートレーザーを置き換えることを目的とし、switch、accelerator、transceiver builders と直接連携して comb を実際のアーキテクチャに適合させています。技術は Chalmers の microcomb research を基盤とし、Navigare Ventures と Chalmers Ventures の支援を受けています。Solinide Photonics AB は 2021 年に Chalmers University of Technology の photonics researchers によって設立され、本社はスウェーデン Partille にあります。同社は Pre-Seed business として、AI datacenters、telecommunications networks、quantum communications 向け optical-interconnect technology を構築しています。silicon nitride photonic approach は CW laser light から optical combs への optical conversion efficiency が 60% 超で、industry standard の 5-10% と比較され、単一の micro-comb photonics chip で co-packaged optics の複数のディスクリートレーザーを置き換えます。この方式は datacenter scale で power consumption、footprint、cost を低減することを目的とし、academic research と industry validation を組み合わせて prototype から production deployment への経路を進めます。現在の SiN processes では sub-0.03 dB/cm propagation loss、約 5 million の Q-factors、0dBm を超える 28 wavelength channels を達成しています。チームの専門性は multilayer silicon nitride photonic circuits、nonlinear photonics と frequency-comb optics、ultrafast photonics と coherent optical communications、nanodevice fabrication、SiN-based microcomb technology、nonlinear light-matter interactions、integrated photonic-circuit design、datacom 向け GaAs VCSELs に及びます。
展示製品
CPO integration では、1 つの pump laser と 1 つの chip で 0 dBm を超える 28 本の usable lines を提供し、optical conversion efficiency は 69%、total output power は 100 mW です。この multiwavelength microcomb source は、qualify する components と管理すべき failure points を減らしながら、より低い power per bit で fibre 当たりの bandwidth を高めることを目的としています。Solinide Photonics AB は optical microcomb technology と CPO integration について 60% 超の conversion efficiency と one-laser operation も掲げています。MPW service は cost-effective MPW runs を通じて dispersion-engineered SiN platform へのアクセスを提供します。プラットフォームは demanding dispersion-control applications 向けに最適化した 750 nm thick SiN を使用し、ultra-low propagation loss を備えると説明されています。E-beam lithography は demanding applications に必要な精度で maskless prototyping を可能にし、high design flexibility を提供します。Accelerated turnaround times は rapid design iteration を支援し、designs をより早く lab に持ち込むことを目的としています。プラットフォームは measurement-validated PDK を介して Luceda IPKISS と統合し、design を支援します。MPW offering は optical microcombs に使われる同じ silicon nitride platform を基盤とし、production deployment 前の photonic designs の prototyping を支援します。同社は AI training clusters と next-generation telecommunications networks が生み出す optical-interconnect requirements を対象とし、従来の optical approaches は bandwidth demand に追いつきにくいとしています。単一 chip の microcomb approach は discrete lasers の数を減らしながら datacenter-scale の power consumption、footprint、cost を下げることを目的としています。
対応領域・製品
- シリコンナイトライド光マイクロコム開発
- CPO多波長マイクロコム光源
- 光変換効率69%のマイクロコム光源
- SiN MPWサービス
- 750 nm SiN分散設計プラットフォーム
- E-beamマスクレス試作
- Luceda IPKISS PDK統合