基本情報
| ブース | J3450 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.shinwa-cont.com |
会社概要
台湾伸和控制工業股份有限公司が属するShinwa Controlsの起源は1962年設立のShinwa Industry Co., Ltd.にさかのぼり、1967年に営業部門が独立してShinwa Controls Co., Ltd.が設立されました。 その初期から、幅広い製造ニーズに対応する専門的な先進制御技術を開発し、特に極めて高い精度と信頼性が求められる半導体製造分野で評価を得ています。 技術と製品は、フラットパネルディスプレイ製造、医療機器製造、航空宇宙、次世代エネルギーシステムでも品質と信頼性で評価されているとしています。 会社情報では、精密温度制御装置、超純空気供給システム、ドライエア供給システム、真空チャンバーの開発、設計、製造、販売、サービスを事業活動として掲げています。 同じ事業範囲にはソレノイドバルブ、モーターバルブ、マイクロバルブも含まれます。 会社情報では資本金90,000,000 Yen、従業員数は2026年8月時点で638人としています。 認証としてISO 9001 (1999)とISO 14001 (2002)が掲載され、ISO 14001はOsaka Officeを除くと注記されています。 日本の拠点としてHeadquarters、Kyushu Plant、Nagano Takato Factory、Nagano Alps Ina Factory、Kumamoto Factory、Osaka Officeが挙げられています。 関連会社Shinwa Technos Co., Ltd.は、精密板金加工を含む板金加工と溶接を行っています。 台湾伸和控制工業股份有限公司のHsinchu Headquarters / Repair Centerは、プロセス環境制御装置とチラーの販売・サービスを担当します。 Taipei Officeはプロセス環境制御装置とチラーの生産・販売・サービスを担当し、Tainan officeは関連製品のサービスとプロセス環境制御装置のトレーニングを行います。 グローバルなサービス体制にはShinwa Controls Korea Co., Ltd.、Shinwa Controls America, Inc.、Shinwa Controls (Shanghai) Co., Ltd.、Shinwa Controls (Singapore) Pte. Ltd.も含まれ、プロセス環境制御装置とチラーの販売またはサービスを行います。 沿革には1978年の東南アジア市場での販売活動開始と、1984年のNagano Plant開設が記録されています。 1985年に半導体製造装置向け温度制御装置を開発し、1987年には半導体製造向け温湿度制御ユニットを開発しました。 1996年にTaipei service centerを開設し、その後2006年に超純空気供給システムを開発、2008年には日本の経済産業省による2008 Edition of 300 Dynamic Manufacturing SMEsに選定されました。 台湾伸和控制工業股份有限公司は2012年に台湾現地法人として設立され、その後2014年に韓国、2017年に米国、2019年に中国の現地法人が設立されました。 2020年にはNagano Alps Ina Factoryを開設しました。
展示製品
同社は、半導体製造分野で培った独自の高効率冷却技術を基盤に、Wiwynn社と連携した取り組みを進めています。 この取り組みを通じて、最先端技術の社会実装を加速させることを目指しています。 持続可能なデジタルインフラの発展に貢献することも目的としています。 同じ取り組みは、グローバル市場でのさらなる事業拡大にもつながっています。 空調機に関するトレーニングセンターとコースを設け、空調機事業を支えるサービススキルを向上させる計画です。 同社製品は医療分野で採用され、精密流体制御技術は航空宇宙開発で活用されています。 次世代エネルギー用途には、水素ステーション、太陽電池、燃料電池の流体制御と、電気自動車や家庭用蓄電装置に使われるリチウムイオン電池が含まれます。 Shinwaのソレノイドバルブとモーターバルブは幅広い用途と流体に対応し、高い耐薬品性を持つ材料を選定して耐久性と信頼性を確保します。 バルブ製品は日本の人工衛星にgyro control (JAXA)用として搭載された実績があるとしています。 開発段階から最終製品まで主にカスタム品を提供し、小ロットのOEM生産にも対応します。 腐食性流体制御の実績は、医療機器、分析装置の流体制御、精密機器の高精度制御に及びます。 この実績は燃料電池向けソレノイドバルブや分析装置向けマイクロ制御バルブにも展開されています。 バルブ製品群はSolenoid Valves、Motor Valves、Micro Valvesで構成されています。 精密温度制御とプロセス環境制御では、1985年に半導体製造向け初の温度制御装置を開発したとしています。 省エネ技術と信頼性技術の開発に取り組み、半導体やLCDを含む複数産業でのプロセス制御実績を挙げています。 アフターサービスは日本のサービス拠点と韓国、台湾、中国、シンガポール、北米の子会社を通じて、世界各地の顧客fabを支援します。 温度制御製品にはChillersとProcess Ambient Control Seriesがあります。 半導体用途にはシリコンウェーハ製造工程の除熱と、レジスト塗布・現像工程の温湿度制御があります。 その他の半導体用途には薬液・粒子・汚染物除去、エッチング時の除熱、洗浄液の温度制御とミスト除去があります。 温度制御はウェーハ検査、ダイシング、最終検査、およびLCD/FPDパネルエッチング装置にも利用されます。 Ultra-low Temperature Chillersは液体冷媒を循環させ、半導体・LCD製造装置の温度制御と冷却を行います。 Combined Precision THC/Chillerは半導体製造工程の温度・湿度制御向けに示されています。 これらの技術が支える半導体分野は、携帯電話・スマートフォン、家電、AV機器、液晶テレビ、自動車に組み込まれる半導体に及びます。
対応領域・製品
- 精密温度制御装置
- 超純空気供給システム
- ドライエア供給システム
- 真空チャンバー
- ソレノイドバルブ
- モーターバルブ
- マイクロバルブ
- 半導体プロセス環境制御装置
- 半導体用Chiller
- 超低温Chiller
- 精密温湿度THC/Chiller