基本情報
| ブース | Q6058 |
| 国 | JP |
| ウェブサイト | nishimura-ct.co.jp/news/3411 |
会社概要
株式会社西村ケミテックは1968年3月1日設立で、資本金9千9百万円、従業員145名（2026年2月現在）、売上高24,516,852千円（2026年2月実績）を掲げています。表面処理関連薬品、化学工業薬品、設備資材に加え、半導体・FPD関連プロセス薬品と設備資材を販売します。薬液供給装置の設計・製造・販売を行い、オンサイト薬液供給管理とメンテナンスも請け負います。海外メーカーの薬品・機器装置等の輸入販売とメンテナンス請負、半導体・FPD・電子機器の検査請負と技術指導も事業範囲です。さらに、高純度薬液の受託製造、FPD検査・後工程総合受託サービスを提供します。関連会社は日本、シンガポール、台湾にあり、NEDIA、SIIQ、SEMIなどの業界団体に参加しています。事業カテゴリーは、半導体・FPD材料設備販売、薬液供給装置設計製造、設備メンテナンス、FPD検査・後工程受託、薬液製造までを含みます。関連会社として株式会社NYSプレシジョン、株式会社NYSインテグラル、NYS CHEMITECH（S）PTE LTD、日商西村化工産業股份有限公司を挙げています。加入団体には大阪化学工業薬品協会、大阪鍍金材料商組合、日本硬質クロム工業会、NEDIA、SIIQ、SEMIが含まれます。本社は大阪にあり、国内事業に加えてシンガポールと台湾の関連会社を通じた海外ネットワークも持ちます。表面処理分野の推奨製品として無水クロム酸とBlueGoldを掲載しています。
展示製品
自社設計のスラリー・薬液供給装置は、一品一様のカスタム製品で、迅速かつ的確なアフターケアに対応します。FPD分野のオンサイトTCMは24時間365日顧客工場内に常駐し、薬液納入計画、薬液手配、薬液供給、使用済液の回収まで一括対応します。メンテナンスはトラブル発生後の対応だけでなく、トラブルが起こらないよう先行管理する考え方です。装置ごとに異なるプロセスガスが除害装置や付帯機器へ与える影響を経験・実績に基づいてシミュレーションし、装置稼働率向上を図る予防的なメンテナンスサービスを計画・実践します。半導体・FPD向けにはプロセス薬品、設備資材、薬液供給装置の設計・製造・販売を扱います。SE製品として直前調合システム、全自動ドラムキャビネット、その他設備が記載され、さらに排ガス処理装置（除害装置）、ドライ真空ポンプ、薬液供給装置も挙げられています。展示範囲は、薬液ハンドリング設備、常時対応のオンサイト化学品管理、除害関連の予防保全、プロセス薬液の制御供給・調製設備を組み合わせたものです。
対応領域・製品
- 半導体・FPDプロセス薬品・設備資材の供給
- カスタムスラリー・薬液供給装置設計
- 薬液供給装置の設計・製造・販売
- FPD向けオンサイトTCM薬液供給管理
- 設備メンテナンスサービス
- FPD検査・後工程総合受託サービス
- 半導体・FPD・電子機器の検査受託・技術指導
- 高純度薬液の受託製造
- 排ガス処理装置（除害装置）の供給
- ドライ真空ポンプの供給
- 直前調合システムの供給
- 全自動ドラムキャビネットの供給