基本情報
| ブース | L0210 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.linde-lienhwa.com.tw |
会社概要
Linde LienHwa Industrial Gases Co., Ltd.は1985年に、聯華神通集團傘下のLien Hwa Industrial HoldingsとLindeによる合弁会社として発足し、台湾最大の産業ガスメーカーと説明されており、本社は台北にあります。台湾の各産業で必要とされる産業ガス、ハイテク・半導体産業向けの電子グレードガス、医療・食品製造向けのガスを供給しています。能力はガス供給チェーン全体を対象とし、ガス生産設備の設計・建設から、運転、配送、ガス応用ソリューション、設置、個別物流支援までを含みます。供給形態にはパイプライン、タンクローリー、シリンダー充填があり、使用量や現場条件に応じて選択できます。Lindeとの連携を通じて各種ガスとガス応用技術を提供できるとし、高効率ガス生産設備への投資に加え、国際的な技術、マーケティング、経営ノウハウを活用しています。近年の継続的な成長については、台湾経済の発展と、Lindeによる資本投資、先端技術、ガス応用開発への支援を要因として挙げています。エレクトロニクス分野では、Lindeは100年以上のガス生産・供給経験を持ち、プロセス知識、R&Dプログラム、クリーンルーム対応のシリンダー充填、腐食性ガス精製、在庫・物流インフラを備えると説明しています。エレクトロニクス事業はシリコン半導体および化合物半導体向けの高純度ガスと薬品を対象とし、顧客が求める純度と供給一貫性に重点を置いています。太陽電池製造では、業界の先駆的企業と各発展段階でガス技術開発を進めてきたとしています。Linde LienHwa Industrial Gases Co., Ltd.は台湾最大のガス供給能力を持つとし、サイエンスパークや工業団地に対応する地下パイプライン網、自社輸送チーム、多様な仕様の設備を備え、将来の拡張余力も確保しています。予備品を集中管理することで保守時間を短縮し、専門のカスタマーサービス担当者が問題の迅速な解決を支援します。ISO:9001、ISO14000、OHSAS18000、FSSC 22000 Food Safety System Certificationなどの認証を取得していると説明しています。サービスには安定供給、ガス管理、高純度ガス供給システムの設計・設置・保守、ガスおよび薬品のオンサイトサービスが含まれます。特殊ガスの生産ネットワークには主要な電子製造拠点に位置する3工場があり、迅速な輸送、柔軟な供給、安全要件に対応します。
展示製品
製品ポートフォリオには、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素、水素、ヘリウム、ガス混合物、特殊ガス、溶接材料とレギュレーターが含まれ、さらにパッケージ薬品、冷媒ガス、設備、材料、ハードウェア、作業者向け安全用品も扱います。供給形態は少量用シリンダーから大容量タンク、カスタマイズ可能なオンサイト供給システムまで広がり、サイズ、純度、圧力を用途に合わせて選択できます。窒素はシリンダー、発生装置、オンサイトソリューションでさまざまな流量・純度要件に対応し、大量需要には空気分離プラントを利用し、非常に高い純度が必要な場合は追加精製を行います。半導体製造ではN2を大量のパージガス、キャリアガスとして使用し、エレクトロニクスではエピタキシャルリアクターの不活性化や、分析用のキャリアガス、ゼロガス、バランスガスとして利用します。ほかにも食品・化学分野のブランケティング、パージ、スパージング、食品のMAP包装、急速冷凍、生物材料保存、凍結手術、プラスチック・ゴムの低温粉砕、熱処理、アンモニア製造、コールドトラップに窒素を利用します。ヘリウムは4.2 Kelvinまたは–269° Celsiusという低い沸点を生かし、MRIやNMR医療装置の超伝導磁石コイル冷却などに使われます。さらにロケット燃料の加圧、溶接・熱処理の不活性雰囲気、エピタキシャル結晶成長、半導体雰囲気のパージ、分析機器校正、リーク試験にもヘリウムを使用します。ヘリウムは酸素と組み合わせて潜水用呼吸ガス混合物を作ることができ、不燃性と低密度の性質は風船用途にも使われます。ヘリウム供給網には米国Kansas州Otisの大規模ヘリウムプラント、世界各地の施設、主要ヘリウム市場に配置された50か所以上のトランスフィル施設が含まれます。使用量に応じて、断熱ISOコンテナ、チューブトレーラー、デュワー、マルチシリンダーパック、通常シリンダー、携帯シリンダーで供給できます。水素は天然ガスの水蒸気改質または水の電気分解で製造でき、H2は燃料ガスの中で最も高い熱伝導率を持ち、酸素と燃焼すると火炎温度が2834°Cに達すると説明されています。アルゴン・水素混合ガスはTIG溶接やプラズマ溶接のシールドガスとしてオーステナイト系ステンレスや一部ニッケル合金に使用され、ステンレスやアルミのプラズマ切断にも使われます。水素は水中火炎切断、ガラス縁の成形、炭素鋼・特殊金属・半導体の製造にも使われ、エレクトロニクスでは還元ガスやキャリアガス、ガスクロマトグラフィでは高純度キャリアガスとして利用されます。その他の用途には植物油・動物油の水素添加、石油製品の水素化処理、燃料脱硫、金属熱処理、リーク試験、石油化学・化学プロセス、産業・実験室用トーチ、液体ロケット燃料があります。さらに燃料電池車、HF/DF chemical lasers、固体物理研究、原子力設備のbubble chambers、アンモニア合成、ターボジェネレーター冷却も水素用途として挙げられています。エレクトロニクス顧客向けには、原材料供給から顧客fabの使用点への最終製品納入までを対象とする品質システムを説明しています。品質活動にはガス純度、一貫性、信頼性の厳格な測定、事業継続計画、プロセス品質管理と統計的品質管理が含まれます。コストと納入面では、社内生産管理、プロセスエンジニアリング、オンサイト・ローカライズソリューション、現地生産、複数の供給源、バルクガス・パイプライン設備への継続投資、大規模オンサイトSPECTRA-N高純度窒素発生装置を挙げています。安全面では、安全最優先の文化、プロセスへの安全組み込み、事故や負傷は予防可能であるという考え、緊急時のHIRTチームを示しています。環境面では、高効率SPECTRA窒素プラント、材料リサイクル・回収、排出削減用フッ素技術、炭素排出量を抑えるオンサイトソリューション、Taichung ERDCでの顧客との環境配慮型電子材料開発を挙げています。エレクトロニクス向け供給は半導体、TFT-LCD、LED、photovoltaicを対象とし、変化するニーズに対応するためプロセス、エンジニアリング、オンサイト設備、ローカライズソリューションへ継続投資しています。半導体製造向けには、バルクガスと電子特殊ガスをグローバルサプライチェーンと組み合わせ、高品質で厳格に測定され、一貫性と信頼性があり、より持続可能な製造プロセスを支えます。半導体用バルクガスとしてAr、CO2、He、H2、N2、O2を挙げ、特殊ガスとしてCO、高純度CO2、CxFy、CF4、F2 / N2、GeH4、HBr、HCl、N2O、Ne・Xeレーザーガス混合物、NF3、NH3、SiH4、Si2H6、Si2Cl6、SiH2Cl2、SiHCl2、SF6を挙げています。TFT-LCD向けにはアジア各地の専用プロセスガス生産設備とバルクガスインフラ、電子特殊ガス群、チャンバー洗浄用オンサイトフッ素システムを提供し、製造時の炭素排出量低減を図ります。LED製造向けにはバルクガスと特殊ガスに加え、大型fab向けのターンキー能力を提供し、オンサイト設備でアンモニア、水素、窒素などを継続監視しながら柔軟に供給し、標準化・モジュール化設計でコスト効率と信頼性を高めます。photovoltaic向けには薄膜・結晶シリコン太陽電池メーカーへガスとエンジニアリング能力を提供し、二酸化炭素排出量とワット当たりコストの低減を支援すると説明しています。エレクトロニクス向け製品群は、半導体、フラットパネルディスプレイ、LED、太陽光発電と、それぞれのバルクガス・電子グレード特殊ガス群も扱います。特殊ガスは100種類を超えるガスと混合ガスに加え、校正用混合ガス、計装用ガス、高純度ガス、精密ガス供給設備を含みます。特殊ガスサービスは製品形態、供給頻度、納入条件に合わせてカスタマイズでき、高純度ガス、精密設計された供給製品、分析に関する助言、分析・計装課題向けサービスを組み合わせます。アルゴンは空気分離で得られる不活性な大気ガスで、溶接シールドガスとして使われるほか、エレクトロニクス、医療レーザー混合ガス、アルミ製造、製鋼、金属加工、断熱に利用されます。エレクトロニクスでは大型シリコン結晶やシリコンインゴット製造の不活性雰囲気、太陽電池・半導体用シリコンウェハ製造、装置パージ、エピタキシャル成長やスパッタリングのキャリアガスとして利用されます。アルゴンの用途説明では、半導体、太陽電池、ディスプレイ、LEDメーカーが顧客分野として挙げられています。医療レーザーでは、ハロゲン、希ガス、バッファガスを含むエキシマレーザー混合ガスを説明し、同じレーザーが電子回路の微細リソグラフィ、ディスプレイ製造、微細穴加工にも使われるとしています。食品グレードガスは食品法規に従う加工助剤・添加物として説明され、医療用ガスは台湾の4つのPIC/GMP製造拠点で生産され、医療用ガスと医療機器の規制要件に従います。アプリケーション専門家はガス使用全体を検討してプロセス最適化を行い、顧客の運転条件に合わせたソリューションを設計します。
対応領域・製品
- 半導体用アルゴンAr供給
- 半導体用二酸化炭素CO2供給
- 半導体用ヘリウムHe供給
- 半導体用水素H2供給
- 半導体用窒素N2供給
- 半導体用酸素O2供給
- 電子グレード一酸化炭素CO供給
- 高純度二酸化炭素CO2供給
- フルオロカーボンCxFy供給
- 四フッ化炭素CF4供給
- F2/N2フッ素窒素混合ガス供給
- ゲルマンGeH4供給
- 臭化水素HBr供給
- 塩化水素HCl供給
- 亜酸化窒素N2O供給
- Ne/Xeレーザー混合ガス供給
- 三フッ化窒素NF3供給
- アンモニアNH3供給
- シランSiH4供給
- ジシランSi2H6供給
- ヘキサクロロジシランSi2Cl6供給
- ジクロロシランSiH2Cl2供給
- トリクロロシランSiHCl2供給
- 六フッ化硫黄SF6供給
- アルシンAsH3供給
- ジボランB2H6供給
- ホスフィンPH3混合ガス供給
- 塩素Cl2供給
- フッ素F2供給
- TFT-LCDチャンバー洗浄用オンサイトフッ素システム
- 大型LEDファブ向けガスターンキーシステム
- クリーンルームでのシリンダー充填
- 腐食性ガス精製
- 高純度ガス・精密混合ガス
- 精密設計ガス供給システム
- 大型オンサイトSPECTRA-N高純度窒素発生装置