基本資料
| 攤位 | L1205 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.kinetic.com.tw |
公司簡介
匠普系統工程股份有限公司是由一群經驗豐富的工程師於 1995 年創立的分析解決方案供應商。公司依客戶需求提供分析儀器產品的完整客製化，並支援評估、完整系統設計、含預算與時程細節的提案、合約準備與執行、交付、安裝、使用者訓練與服務。公司表示，其服務與品質控制已取得 ISO-9001:2008 認證。公司重視創新，員工每年赴海外研習與交流知識，持續學習先進分析技術。其分析技術涵蓋全球市場現有的多種線上與化學分析方法，從氣相樣品延伸到液體樣品。客戶涵蓋工程與學術機構，以及半導體、煉油、石化、化工、塑膠、橡膠、纖維、冶金、採礦、鋼鐵、電力、燃氣、電子與食品等產業。匠普系統工程股份有限公司表示，其重視專業能力與務實服務，目標是依客戶需求提供解決方案，而不只是銷售設備。
展出產品
匠普系統工程股份有限公司提供穩定可靠的線上分析系統，以滿足工業與環境量測需求。公司與 ABB、Ametek、NEO Monitors、Orthodyne 等技術公司合作，並表示已為工業與公用設施應用提供超過數千套線上分析系統。氣體成分濃度量測可用於反應監測、燃燒，以及產品純度或雜質分析，作為製程、安全與排放控制的重要因素。液體化學成分濃度量測可用於反應及產品純度或雜質分析，作為生產、安全與品質控制的重要因素。產品範圍包含採用 Gas Chromatography、UV/IR Photometer/Spectrometer、FTIR/FTNIR Spectrometer、Laser、TCD/FID/Paramagnetic、ZrO2、Quenched Luminescence 與 Quarze Crystal Microbalance，亦即 QCM，技術的線上氣體分析儀。公司列出的液體分析技術包含 Gas Chromatography、UV/IR Spectrometer 與 FTIR/FTNIR，另有採樣和調節系統、樣品處理系統、廢氣回收系統、防爆冷氣、鼓風機、儲槽和管道保溫或加熱系統，以及製程設備線上維修解決方案。ABB TALYS ADP300 series 是為半導體需求設計的雙通道濕式製程分析儀，適用於即時、批次製程或單片機台的濕蝕刻、清洗與光阻去除製程監測。TALYS ADP300 由已驗證的 TALYS ASP300 單通道系統演進而來，增加雙通道同步量測，並應用於半導體、FPD 與太陽能電池製造。ADP300 可在製程溫度下搭配非接觸式取樣進行量測，提供即時藥液補充控制與槽液終點警示，並避免樣品前處理造成的延遲。其列出的特色包含小型設備佔地、雙取樣點同步量測、單一分析儀支援多種化學藥液並可 on-the-fly calibration switching、非侵入式 ClippIR+ 取樣配件，以及光源僅需每 5 年更換一次。ADP300 也提供標準 RCA 清洗製程槽液預測組態，並可依需求調整，用於太陽能電池、FPD 與半導體製程的化學藥液監控。TALYS ASP300 series 提供濕蝕刻、清洗與光阻去除槽液的即時原槽監測，並應用於半導體、LED 與太陽能電池製造。ASP300 可 24/7 連續運轉，資料直接顯示於設備螢幕，採無試劑設計，並使用不需修改管路的無接液取樣方式。其設定可透過電子郵件上傳分析儀設定檔來擴充，單一取樣點也可同時監測多種槽液化學品，以減少所需分析儀數量。公司表示，TALYS ASP300 的即時槽液成分預測可降低化學品用量與製程異常事件，同時提升製程穩定度與良率。AII Trace Oxygen and H2S Analyzer 產品提供氧氣與硫化氫分析，可用於氣體純度檢測、惰性氣體保護、半導體製程、氣體洩漏偵測與燃燒控制。其量測範圍從 ppb 與 ppm 的 ultra-trace levels 一直到最高 100% O₂ 的氣體純度。AII 提供固定式 rack-mount、panel、bench 分析儀，以及 portable 與 handheld 型式，可用於實驗室氣體純度檢測、現場氣體管線檢查、氧氣濃度抽樣與移動式或現場監控。產品清單包含電化學硫化氫分析儀與電化學氧氣分析儀，可用於工業、天然氣、高純度氣體與其他量測環境。各產品頁列出的產業涵蓋半導體、面板、氣體、天然氣、煉油、石化、化學、橡膠、塑膠、電力、鋼鐵與造紙，合作品牌則包含 ABB、AMETEK、AMS、AII、A+ Corporation、CSI、IGS、O'BRIEN、NEO、Orthodyne、Perma Pure、THERMO、Friedrich、ESURGING、ICEqube、TRACE Technology 與 K.TEK。
能力與產品項目
- 分析儀器系統客製設計安裝訓練
- 線上氣體濃度分析系統
- 線上液體化學濃度分析系統
- 線上氣相層析分析
- UV／IR 光譜線上分析
- FTIR／FTNIR 線上分析
- 雷射氣體線上分析
- TCD／FID／順磁氣體分析
- ZrO2 氧氣分析
- 淬熄發光氣體分析
- QCM 微量氣體分析
- 採樣與調節系統
- 樣品處理系統
- 廢氣回收系統
- 儲槽與管道保溫加熱系統
- 製程設備線上維修
- 雙通道濕式製程分析儀供應（ABB）
- 濕蝕刻清洗光阻去除槽液監測供應（ABB）
- 微氧與硫化氫分析儀供應（AII）