基本情報
| ブース | P5906 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.geniideas.com.tw |
会社概要
GENII IDEAS Co., Ltd. は2018年に設立され、ハイテク設備の最適化を中心的な使命とし、テクノロジー産業の運用能力を継続的に高めるプラットフォームの構築を目指しています。製造設備のニーズを起点に、カスタム工場設備エンジニアリング、設備据付、部品・消耗品の開発、代理サービスへと事業を広げ、統合されたエンジニアリングと設備支援を必要とする顧客に対応しています。技術基盤は材料科学、レーザー光学、自動制御、機械加工、精密金型開発を組み合わせており、工場エンジニアリングと設備・部品開発を連携させています。2021年には ISO 45001 労働安全衛生マネジメントシステム認証を取得し、サービスの改善を続けながら顧客の競争力維持を支援するとしています。反省、革新、即時、共好を中核価値とし、企業文化、運営判断、プロセス改善、迅速な行動、ステークホルダーとの関係の基礎に置いています。適用分野は半導体工場設備、半導体装置、半導体パッケージ・テスト、太陽光、風力、軍需・航空宇宙、石油化学、鉄鋼などです。中核サービスは工場設備エンジニアリング、設備・部品の設計開発、分野横断の技術統合と革新的応用の三領域で構成され、エンジニアリングと研究開発を統合してプロセス性能の改善を支援します。顧客分野はウェハファウンドリ、オプトエレクトロニクス、メモリ、ICパッケージ・テスト、半導体装置、医療バイオ、化学に及び、各産業のニーズに合わせたエンジニアリング・設備ソリューションを提供しています。レーザー光学、材料科学、自動制御を対象とする国内外の実用新案・発明特許を保有し、技術は第三者試験機関による検証も受けているとしています。レーザー光源シナリオ応用ラボでは、高出力レーザー、精密加工、スマート製造、異業種統合を中心にフォトニクス技術の応用を探究し、自社構築リソースとワンストップ統合開発能力を備えています。
展示製品
GENII IDEAS Co., Ltd. は、ハイテクガスの二次配管、プロセス供給システム、クリーンルーム建設、分野横断の技術統合を含む工場設備・プロセスシステムエンジニアリングを提供します。二次配管と工場設備の範囲には、ガス、薬液、装置 Move-in 位置決め、空調、装置循環冷却水、純水、排水、電力、真空、排気、間仕切り、そのほかのエンジニアリングシステムが含まれます。これらの配管について、設計計画、現場施工、施工監理、配管品質検査までを一体で提供し、単なる据付に限定しません。特殊ガス二次配管を中核サービスとし、設備・部品設計開発と分野横断技術統合を組み合わせ、設計・施工から最適化まで対応します。半導体およびその他のハイテク製造環境に向け、プロセス供給、工場安全、設備統合の要求に対応するエンジニアリングと設備サービスを展開しています。製品開発では、材料科学、機械加工、自動制御の研究開発力を組み合わせ、プロセス装置部品、消耗品、補助治具を設計・開発します。カスタム研究開発と現地製造により多様な要求へ迅速に対応し、納期短縮とプロセス効率向上につなげるとしています。製品には軽量治具、バルブ保護、継手検証クリップなどの特許設計が含まれ、設備性能と安全性の改善を目的としています。半導体・ハイテク顧客に対しては、工場設備エンジニアリング、装置据付、部品・消耗品開発、技術統合、現地製造を組み合わせ、工場インフラから装置レベルまでをつなぐサービスを構成できます。さらにレーザー光源の応用能力を持ち、高出力レーザー、精密加工、スマート製造、異業種統合を中心とした統合開発にも対応します。
対応領域・製品
- カスタム工場設備エンジニアリング
- プロセス装置据付
- プロセス装置部品・消耗品開発
- ハイテクガス二次配管工事
- プロセス供給システム工事
- クリーンルーム建設
- 装置 Move-in 位置決め
- 装置循環冷却水配管工事
- 純水・排水配管工事
- 真空・排気配管工事
- 二次配管設計・現場施工
- 配管施工監理・品質検査
- プロセス装置補助治具設計開発
- 高出力レーザー応用統合開発