기본 정보
| 부스 | P5218 |
| 국가 | KR |
| 웹사이트 | www.enjet.co.kr |
회사 소개
ENJET Co., Ltd.는 2009년에 설립되어 스마트폰, 디스플레이, 반도체, 유리, 카메라 모듈, 바이오, 소재 산업을 위한 nanojet printer와 coater를 생산 및 판매합니다. 설립 이후 핵심 기술 개발에서 생산, 판매, 마케팅까지 이어지는 전 과정을 통해 글로벌 시장을 확대해 왔습니다. 사업은 프린팅, 코팅, 레이저 및 광학, 플라즈마, 소재 가공 응용에 대한 전문성을 기반으로 합니다. ENJET Co., Ltd.는 iEHD Printing, iEHD Coating, Laser & Optics, Plasma를 핵심 기술로 제시합니다. iEHD Printing은 iEHD effect를 이용해 초고해상도 패턴을 형성합니다. iEHD Coating은 iElectrohydrodynamic 유체 제어를 기반으로 고해상도와 초균일 코팅을 구현합니다. Laser & Optics 기술은 EHD 장비에서 분사되는 극미세 입자를 광학 장비로 확인해 공정을 지속할 수 있도록 지원합니다. 회사는 정밀 가스 유량 제어를 이용한 Plasma 기술도 개발하여 기존 RF plasma의 한계를 극복하고자 합니다. 제품 및 응용 카테고리에는 Inkjet, Display, Mobile, Semiconductor, Bio Sensor, E-Materials가 포함됩니다. ENJET Co., Ltd.는 iEHD를 기반으로 초미세 정밀 프린팅, 코팅, 대기압 플라즈마를 결합한 제조 기술을 공급합니다. 회사는 Jang Young-sil Award, Innobiz, Excellent Patent Award, ISO 9001을 획득했습니다. 이러한 수상 및 자격을 고객 품질 만족, 협력 관계, 고객 만족 경영과 연결합니다. ENJET Co., Ltd.는 친환경적이고 미래지향적인 방향을 제시하며 기술, 생산, 상용 역량을 계속 확장하고 있습니다.
전시 제품
ENJET Co., Ltd.의 독자 프린팅 기술은 기존 산업용 프린팅 장비의 한계를 넘어 고해상도와 고정밀 프린팅을 구현하는 것을 목표로 합니다. 시스템은 다양한 점도의 소재를 처리해 서로 다른 고객 소재 요구에 대응할 수 있는 공정 기반을 제공합니다. 여러 공정 요인을 정밀하게 제어하여 고점도 소재를 안정적으로 dispensing하면서 micrometer급 해상도를 구현합니다. microchip 제조 공정에서는 위치를 정밀하게 제어하고 femtoliter 규모의 미세 직경 도전성 잉크를 프린팅할 수 있습니다. 이 프린팅 기술은 디스플레이와 반도체 분야의 배선 open defect를 정밀 수리하는 데도 사용됩니다. 코팅 기술은 Electro-capillary effect를 이용해 빠르고 균일한 코팅을 구현합니다. 기존 dispenser가 처리하기 어려운 영역에는 고점도 초정밀 dispensing을 제공합니다. 전기장을 적용하면 droplet 또는 sputtering 형성을 억제하고 재현성을 높여 보다 안정적인 dispensing을 가능하게 합니다. 이러한 프린팅과 dispensing 기능은 회사의 Semiconductor 제품 카테고리와 iEHD 기반 제조 기술 플랫폼에 직접 연결됩니다. 같은 핵심 기술 플랫폼은 Display, Mobile, Bio Sensor, E-Materials 응용에도 확장됩니다. iEHD printing, iEHD coating, 레이저 및 광학 검증, 정밀 가스 유량 제어 Plasma는 함께 차세대 공정 개발의 기술 기반을 구성합니다.
역량 및 제품
- Nanojet 프린터/코터 제조 및 판매
- 고점도 마이크로미터급 정밀 디스펜싱
- 마이크로칩용 펨토리터 도전성 잉크 정밀 인쇄
- 디스플레이 및 반도체 배선 오픈 결함 수리
- Electro-capillary 효과 기반 고속 균일 코팅
- iEHD 초고해상도 패턴 형성
- 정밀 가스 유량 제어 플라즈마 기술
- EHD 미세 입자 광학 검증